Интерференционный фильтр
О П И С А Н И Е 382041
ИЗОБРЕТЕН ИЯ
К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ
Союз Советскнк
Социалистических
Республик
Зависимое от авт. свидетельства №
Заявлено 24.1Х.1971 (№ 1702342/18-10) с присоединением заявки №
Приоритет
Опубликовано 22.Ч.1973. Бюллетень ¹ 22
Дата опубликования описания 13Х|П.1973,Ч. Кл. С 02Ь 5/28
Комитет по делам изобретений н открытий лрн Соеете Министров
СССР
;5 ДЬ, 535 345 67(088 8) Автор изобретения
E. Г. Столов
Заявитель
ИНТЕРФЕРЕНЦИОННЪ|Й ФИЛЬТР
Известны иитерференционные фильтры, содержащие подлозкку с нанесенным на ней интерфереиционным покрытием.
В предлагаемом интерференционном фильтре подло>яка выполнена в виде клина, покрытого со стороны, противоположной иитерференционному покрытию, отражающим слоем из материала с пропусканием в полуинтервале Х)Х1, где Х1 — верхняя граница побочной полосы пропускания интерференционного по кр ы ти я.
Такое выполнение фильтра увеличиваег крутизну спектральной характеристики и уменьшает паразитное излучение.
На фиг. 1 а, б приведены спектральные кривые пропускания многослойного интерферснциоиного покрытия и подложки соответственно; иа фиг. 1 в, 3 †характеристи спектрального отражения отражательного покрытия и всего фильтра соответственно; на фиг. 2 — вариант выполнения описываемого фильтра и ход лучей в нем.
Устройство состоит из клиновидной подложки 1, изготовленной из селективно поглощающего материала, многослойного интерфер нциоиного покрытия 2 и отражающего покрытия 3.
Рабочий луч, т. е. попадающий в прибор, проходит через интерференциониое покры гие
2, подложкт 1 и, Отразившись От покрытия снова проходит через подложку и покрытие 2.
Этот луч обозначен непрерывной линией на фиг. 2.
Положение границы пропускания .,р интерференционпого покрытия 2 (фиг. 1, а) совпадает с границей рабочей области светофильтра. Паразитиый «всплеск» пропускания 113терферснционного покрытия 2 в интервале длин волн от О до л1 является свойством отрезающих интсрфереициоииы: фильтров. По10 этому коротковолновая граница пропускаш1я матерна ча подложки дол;киа быть p38113 / .1 или находиться в интервале длин волн от л1 до 4р (фиг. 1,а). При падении излучения»а покрытие 2 радиация с длиной волны в и t15 тервале от 4 до,„полность10 отразится. Излучение с длиной голны в интервале от О до
Х1, прошедшее покрытие 2, будет полностью поглощено подложкой.
Таким образом, в спектре излучения, отра20 женного покрытием 8, будет радиация с длиной волны, большей iL„.
Т3K 1 lк подложка имеет форму клtlltа, то рабочий луч, выходит под углом по отношению к лучу, отразившемуся от покрытия 2
25 (обозначен пунктиром иа фиг. 2). Угол клина а выоирают таким, чтобы луч, отр3зивlttèéся от покрытия 2, ие попадал в прибор.
ИзмеtIH51 tt0.tt05ti0tttt . гp3ttttttht проп1 0каи;111 многослойного интерферснциоиного покрытия
30 41Ь можно получать отражатели с различными положениями коротковолновой границы
382041
Предмет изобретения
4» 7 д/
Я
Л5 г7
Р о
l» %
Я
»1 ГР
@uZ 1
Составитель С, Степанова
Техред Е. Борисова
Корректор С. Сатагулова
Редактор С. Хейфиц
Заказ 2199»5 113д. № 1621 Тира»к 551 Подписное
ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР
Москва, Ж-35, Раушская иаб., д, 4/5
Типография, пр. Сапунова, 2 рабочей области. При этом спектральная характеристика селективного отражателя имеет большую крутизну, так как рабочий луч дважды проходит через интерференционное покрытие 2.
Интерференционный фильтр, содержащий подложку с нанесенным на ней интерференционным покрытием, отличаюшийся тем, чго, с целью увеличения крутизны спектральной характеристики и уменьшения паразитного излучения, подложка выполнена в виде клина, покрытого со стороны, противоположной интерференционному покрытию, отражающим слоем из материала с пропусканием в полуинтервале 7)7i, где 7,1 — верхняя граница побочной полосы пропусканпя интерферен10 цнонного покрытия.
