Способ изготовления подложки для полупрозрачного фотокатода
О П И CA Н И Е
ИЗОБРЕТЕНИЯ
К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ
Союз Советских
Социалистических
Республик
Зависимое от авт. свидетельства №
Заявлено 03. IX.1969 (М 1359648/26-25) с присоединением заявки №
Приоритет
Опубликовано 15.Ч.1972. Бюллетень № 16
Дата опубликования описания 16Х1.1972
M. Кл. Н Olj 43/28
Иомитет по делам изобретений и открытий при Совете Министров
СССР
УДК 621,383.535.215 (088.8) Авторы изобретения
Я. Б. Герчиков, А. С. Шефов и А. Г. Переведенцева
Заявитель
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПОДЛОЖКИ
ДЛЯ ПОЛУПРОЗРАЧНОГО ФОТОКАТОДА
Изобретение относится к фотоэлектронным приборам, а именно к способам изготовления приборов с полупрозрачным фотокатодом.
Известны механические способы изготовления подложек для фотокатодов, имеющих на поверхности выступы заданной геометрии, что повышает чувствительность фотокатода.
Однако известные способы не позволяют получать подложки с малым шагом выступов.
Между тем для преобразования изображения lo (например, с помощью передающих телевизионных трубок) необходима высокая разрешающая способность фотокатода, и поэтому в них применимы лишь подложки с микрорельефом, имеющим шаг выступов менее 15
0,1 мм.
Предлагаемый способ позволяет получить такие подложки благодаря использованию технологии получения фотоситаллов и растровой техники. 20
Способ осуществляют следующим образом.
Пластину светочувствительного стекла — заготовку подложки — засвечивают световым полем, состоящим из пятен, вплотную примыкающих одно к .другому. В каждом из пятен 25 освещенность меняется по определенному закону, соответствующему заданной форме выступов. Например, для получения конических выступов пятна круглые, а освещенность вдоль радиусов меняется по закону, близко- 30 му к линейному (уточнение производят экспериментально), с нулевой освещенностью в центре и максимальной на краю пятна.
После термообработки, необходимой для образования фотоситалла на экспонированных участках стекла, засвеченную поверхность пластины протравливают в растворе плавиковой кислоты (режим травления также подбирают экспериментально). Так как скорость растравливания фотоситалла в 10—
20 раз выше, чем скорость растравливания светочувствительного стекла, а глубина образования фотоситалла пропорциональна освещенности данной точки, то в результате травления на поверхности подложки получают рельеф, геометрию которого можно регулировать. Для обеспечения необходимого распределения освещенности при экспозиции могут быть использованы приемы растровой оптики.
В связи с тем, что получение эффективных фотокатодов на известных светочувствительных стеклах затруднительно (они содержат значительное, до 15%, количество лития, воздействующего на фотокатод при его обработке) целесообразно наносить на рельефную поверхность защитный слой. При экспериментальной проверке способа наносился защитный слой кварца толщиной около 0,05 мк.
Этот слой обеспечил получение фотокатодов с высокой чувствительностью. Предлагаемым
338947
Предмет из обретения
Составитель Н. Таборко
Техред Л. Богданова
Корректор О. Тюрина
Редактор Т. Орловская
Заказ 1688/8 Изд. № 73б Тираж 448 Подписное
ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР
Москва, jK-35, Раушская наб., д 4(5
Типография, нр. Сапунова, 2 способом можно получать рельеф с шагом до
0,01 мм и использовать подложки в преобразователях изображения различных типов.
Способ изготовления подложки для полупрозрачного .фотокатода, заключающийся в том, что на поверхности стеклянной пластины получают выступы в виде призм, пирамид или конусов, для чего применяют засветку и травление пластины .из светочувствительного стекла, отличающийся тем, что, с целью повышения разрешающей способности, засветку про5 изводят световыми пятнами, примыкающими одно к другому, причем распределение освещенности в каждом из пятен соответствует заданной форме выступов, а после травления на поверхность пластины наносят защитную
10 пленку окиси кремния.
