Способ комбинированной съемки с помощью блуждающей маски
242669
Союэ Советскил
Социалистических
Республик
Зависимое от авт, свидетельства ¹
Y,ë. 57а, 53
Заявлено 28.Ч1.1967 (№ 1168097/18-10) с присоединением заявки №
Приоритет
Опубликовано 25.1Ч.1969. Бюллетень Л 15
Дата опубликования описания 19.IX.1969
МПК G 03b
УДК 778.534.7(088 8) Комитет по делам иэобретений и открытий ори Совете Министров
СССР
Автор изобретения
В. Н. Курач
Заявитель
СПОСОБ КОМБИНИРОВАННОЙ СЪЕМКИ С ПОМОЩЬЮ
БЛУЖДАЮЩЕЙ MACK,È
Предмет изобретения
Известный способ комбинированной съемки с помощью блуждающей маски, согласно которому съемку игровой сцены производят на две пленки, размещенные B одном фильмовом канале с последующей фотохимической обработкой масочной пленки, обеспечивает получение двухплановой композиции.
Применение предложенного способа позволяет получить более чем двухплановую композицию благодаря тому, что в съемочную камеру со стороны масочной пленки заряжают дополнительную не экспо нированную пленку, экспонируют ее на фоне инфраэкрана с последующей фотохимической обработкой, последовательно впечатывают на позитивную пленку основную и дополнительную маски, которые совмещают с масками, полученными при последующих экспозициях, после чего позитив ную пленку с объединенной маской заряжают в съемочный аппарат в контакте с негативной пленкой.
В киносъемочный аппарат заряжают маскированную пленку в контакте эмульсия к эмульсии с основной пленкой изображения.
С масочной стороны заряжают третью пленку — неэкспонированную для получения негатива маски во второй экспозиции. В таком виде снимается вторая экспозиция на фоне инфраэкрана. Чаще всего это бывает актерская сцена, взаимосвязанная по мизансцене, а значит, и,по масштабу, с переднеплано выми и заднеплановыми деталями задуманного кадра. После обработки негатива маски второй экспозиции производится совмещение масок первой и второй экспозиций на одну позитивную пленку в процессе последовательной печати в съемочном аппарате: сначала с негатива маски первой экспозиции, затем с негатива маски второй экспозиции. Последующая
10 зарядка для третьей экспозиции ничем не отличается от зарядки для второй экспозиции.
В последней экспозиции в аппарат заряжают две пленки. Число экспозиций определяется числом плановости задуманного кадра.
Способ комбинированной съемки с помощью блуждающей маски, согласно которому съем20 ку игровой сцены производят на две пленки, размещенные в одном фильмовом канале с последующей фотохимической обработкой масочной пленки, отличающийся тем, что, с целью получения более чем двухплановой ком25 позиции, в сьемочную камеру со стороны масочной пленки заряжают дополнительную неэкспонированную пленку, экспонируют ее .на фоне инфраэкрана с последующей фотохимической обработкой, последовательно впе30 чатывают на позитивную пленку основную и
242669
Составитель С. Т. Коврина
Техред Л. К. Малова Корректор t. Д. Чунаева
Редактор Метельский
Заказ 2133/13 Тираж 480 Подписное
ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР
Москва, Центр, пр. Серова, д. 4
Типография, пр. Сапунова, 2 до поляительную маски, которые совмещают с масками, полученными при последующих экспозициях, после чего позитивную пленку с объединенной маской заряжают в съемочный аппарат в контакте с негативной пленкой.
