Маскировочный материал
Изобретение относится к области военной техники, конкретно к материалам для изготовления маскировочных устройств. Маскировочный материал содержит тканевую основу и несколько нанесенных на нее полимерных слоев различного цвета и толщины, образующих маскировочный рисунок в виде случайно расположенных пятен неправильной формы. Полимерные слои формируют рельефную поверхность материала с глубиной рельефа 0,5...5 мм. Указанный маскировочный материал обеспечивает улучшение маскировочных свойств. 1 ил.
Изобретение относится к маскировке, а конкретно - к материалам для изготовления маскировочной одежды, маскировочных покрытий и других устройств, выполняющих маскировочные функции.Известен патент США №4656065, F 41 H 3/00, 1987, в котором предложено для имитации трехмерной текстуры поверхности естественного фона использовать камуфляжный рисунок, в котором пятна различных оттенков соответствуют различным участкам светотеневого рисунка естественного фона. При изменении характера естественного освещения меняется соотношение яркости освещенных и неосвещенных (теневых) участков естественного трехмерного фона, то есть контраст (Всв-Вт)/Всв, где Всв - яркость освещенного участка фона, а Вт - яркость неосвещенного участка фона.В ясный солнечный день величина контраста между освещенными и неосвещенными поверхностями естественных трехмерных объектов выше, чем в пасмурную погоду. Напротив, контраст между темными и светлыми пятнами плоского камуфляжного рисунка остается постоянным, так как определяется постоянным соотношением коэффициентов отражения светлых и темных участков поверхности. Это приводит к отличию видимой текстуры естественного фона от видимой текстуры камуфляжа, что определяет недостаток указанного решения.Известен патент США №3069796, 1962, в котором предложен трехмерный камуфляжный материал, образующийся в результате прорезывания в исходном плоском материале периодического набора разрезов, что при растягивании материала создает трехмерную структуру, имитирующую растительный фон.Недостатком указанного решения является снижение прочности материала, а также невозможность создания мелкомасштабной текстуры.Известен патент США №2502926, 1950, в котором для создания декоративного рельефа на поверхности плоского материала предлагается нанесение пасты поливинилхлорида.Однако нанесенный рисунок, выполняя декоративные функции, не имитировал естественного фона и не мог использоваться для маскировки.Известен патент США №4243709, В 32 В 003/10, 1981, в котором предложен камуфляжный материал, образованный нанесением на материю нескольких слоев пластизоля, образующих пятна различного цвета случайной формы.Предложенный материал имел гладкую поверхность, что приводит к независимости величины контраста светлых и темных участков поверхности от интенсивности и характера естественного освещения и определяет недостаток данного решения. Данный аналог по совокупности признаков является наиболее близким к изобретению.Задачей данного изобретения является улучшение маскировочных свойств маскировочных изделий за счет имитации трехмерной фактуры естественных фонов.Для решения данной задачи предлагается материал, содержащий тканевую основу и несколько полимерных слоев различного цвета, нанесенных на нее. Каждый слой наносится в виде случайно расположенных пятен неправильной формы. При этом полимерные слои имеют различную толщину, и поэтому поверхность предлагаемого материала имеет рельеф. Предлагаемое решение лишено недостатков прототипа, поскольку образуемый выпуклыми участками полимерного слоя светотеневой рисунок соответствует по своему контрасту светотеневому рисунку естественного фона, и это соответствие сохраняется при изменении интенсивности и характера естественного освещения.На чертеже схематически изображено сечение предлагаемого материала, содержащего тканевую основу 1 и два полимерных слоя 2.Глубина рельефа L должна быть от 0,5 до 5 мм, чтобы наилучшим образом имитировать пространственную структуру естественного фона, не повышая при этом жесткость материала выше эргономически допустимых значений.Рельефные полимерные слои могут быть, например, слоями поливинилхлорида, полученными путем нанесения пасты (пластизоля), например, ротационно-шаблонным способом. Ротационно-шаблонный метод печати пастами ПВХ широко применяется в промышленности.Формула изобретения
Маскировочный материал, содержащий тканевую основу и несколько полимерных слоев различного цвета, нанесенных на указанную тканевую основу и образующих маскировочный рисунок в виде случайно расположенных пятен неправильной формы, отличающийся тем, что указанные полимерные слои выполнены различной толщины и образуют рельефную поверхность с глубиной рельефа 0,5...5 мм.РИСУНКИ
Рисунок 1
Похожие патенты:
Устройство противодействия радиолокационному обнаружению плоских палубных надстроек корабля // 2225326
Изобретение относится к судостроению и касается создания средств для противодействия радиолокационному обнаружению плоских палубных надстроек кораблей
Изобретение относится к маскировке, в частности к снижению заметности летательных аппаратов (ЛА), и может быть использовано для проведения мероприятий по скрытию ЛА военного назначения от средств оптико-визуальной разведки
Изобретение относится к маскировке, в частности к деформирующим маскам, предназначенным для искажения внешнего вида маскируемых объектов
Маскировочное покрытие // 2215973
Изобретение относится к области маскировки, в частности к маскировочным покрытиям
Изобретение относится к области радиотехники и предназначено для защиты наземных металлических объектов от поражения боеприпасами с радиометрическими системами самонаведения путем адаптивной компенсации радиометрического (радиояркостного) контраста объекта на фоне подстилающей поверхности
Изобретение относится к маскировке, а конкретно к способам камуфляжного окрашивания и камуфляжным изделиям, имеющим деформирующую окраску, и может быть использовано при промышленном изготовлении маскировочных полотнищ, накидок, предметов одежды, а также при маскировке техники и сооружений
Имитационное устройство // 2200294
Изобретение относится к области маскировки, в частности к средствам имитации
Зимняя одежда с камуфлированным мехом // 2199710
Изобретение относится к маскировке, в частности к маскировочной одежде, предназначенной для использования в холодное время года
Щит (варианты) // 2198372
Изобретение относится к области защиты людей и вооружения, а конкретно - к средствам маскировки и защиты от пуль и осколков боеприпасов
Изобретение относится к области военной техники, конкретно к способу и оборудованию для взрывопожаропрофилактики на складах хранения боеприпасов
Способ размещения подземного объекта // 2240484
Изобретение относится к области ракетной техники и может быть использовано при размещении ракет в подземных сооружениях
Изобретение относится к области маскировки, в частности к средствам постановки аэрозольных масок-помех
Изобретение относится к военной области, в частности к способам и устройствам скрытия войск и объектов на фоне водной поверхности посредством ее распятнения
Изобретение относится к области маскировки, в частности к средствам постановки масок-помех из отражателей
Корабль // 2249535
Изобретение относится к судостроению и касается разборки средств снижения вероятности и дальности обнаружения корабля радиотехническими средствами противника
Складное укрытие (варианты) // 2251066
Изобретение относится к области военного дела, а именно к средствам защиты наземных объектов
Изобретение относится к области транспортного машиностроения, более конкретно к конструктивным элементам отопительно-вентиляционных устройств, используемых для обогрева и вентиляции внутренних помещений транспортных средств
Изобретение относится к военной технике, в частности к средствам маскировки
Изобретение относится к средствам взрыво-пожаропрофилактики на складах хранения боеприпасов