Способ электронно-лучевой обработки жидкости
Изобретение может использоваться в устройствах для электронно-лучевого инициирования радиационно-химических превращений в неперемешиваемой жидкости с толщиной слоя вдоль направления распространения пучка электронов, превышающей толщину слоя полного поглощения. Жидкость с растворенным в ней газом поднимается навстречу пучку электронов, ширина которого равна ширине потока жидкости. В плоскости выходного окна реакционной камеры создается поток газа с динамическим давлением, превышающим динамическое давление жидкости. Прохождение жидкости через реакционную камеру обеспечивается избыточным гидростатическим давлением. Жидкость, выходящая через окно реакционной камеры, выносится в виде аэрозоля из области облучения со скоростью газового потока, чем обеспечивается последовательный набор дозы каждым элементом жидкости в каждой точке дозного распределения внутри слоя полного поглощения. Изобретение позволяет эффективно с высокой степенью однородности обрабатывать любой элемент объема жидкости. 1 ил.
Изобретение относится к технике использования электронно-лучевых технологий при радиационно-химической модификации жидких неперемешиваемых сред с размером облучаемой жидкости вдоль пучка электронов, превышающим длину полного поглощения энергии электронов
макс, и может быть применено в установках для комплексного обеззараживания химически загрязненных и бытовых стоков, речной воды и в других устройствах.
tр (например, при нормальных условиях для озона tр
2 минут). Газ, растворенный в жидкости, наиболее эффективно "используется" для продолжения цепи радиационно-химических реакций. Часть газа, определяемая величиной избыточного давления в точке ввода, в процессе подъема к выходному окну реакционной камеры переходит в свободное состояние и участвует в создании аэрозольной смеси на выходе из камеры 2. Реакционная камера 2 и резервуар-накопитель 1 образуют сообщающиеся сосуды и поэтому обрабатываемая жидкость под действием гидростатического давления столба жидкости в резервуаре-накопителе 1 поднимается к плоскости 3 выходного отверстия реакционной камеры. Ширина окна реакционной камеры равна ширине пучка электронов. Толщина d слоя жидкости, определяемая расходом Qж, превышает толщину слоя полного поглощения
макс:d >>
макс . Время нахождения элемента слоя жидкости под пучком много меньше времени, необходимого для перемешивания. Распределение поглощенной энергии - дозы внутри слоя полного поглощения ("нормальное" распределение) описывается синусоидальной функцией и величина поглощенной воды принимает значения от 0 до 1 (Чепель Л.В. Применение ускорителей электронов в радиационной химии. М.: Атомиздат, 1975, 151 с.). Д(x) = 0,5Дмакс[1+Sin(4,5x/
макс+0,2)] (1), где Д(х) - величина поглощенной дозы, отн. ед., х - расстояние от поверхности вещества, г/(см2 МэВ),
макс - толщина слоя полного поглощения, г/(см2МэВ); для воды при энергии электронов Е=1,5 МэВ
макс
0,007 м. В плоскости 3 выходного сечения реакционной камеры поперек потока жидкости и пучка электронов движется поток газа - поршень, например, сжатый воздух или газ, взятый из зоны радиолиза, обогащенный озоном. Усредненные по столкновениям значения потерь энергии и полного угла отклонения электронов на единицу длины пути пропорциональны плотности вещества и в газе поршня пренебрежимо малы по сравнению с поглощением энергии и рассеянием в жидкости. Динамическое давление потока газа много больше динамического давления потока жидкости
гVг 2 >>
жVж 2; Qг/Qж >> 1, где:
г,
ж - плотность соответственно газа и жидкости, Vг, Vж - массовые скорости газа и жидкости, Qг, Qж - расходы газа и жидкости. Жидкость начинает поступать в зону пониженного статического давления в потоке газа. Для обеспечения контролируемого прохождения заданного потока жидкости Qж через реакционную камеру 2 в приемный резервуар 4 устанавливается такая высота
h слоя жидкости в резервуаре - накопителе 1 над плоскостью 3 выходного окна, чтобы величина избыточного давления
P =
h
жg, (g- ускорение свободного падения), превышала динамическое давление газа
P
Vr2 . Достигая высоты (h -
макс), жидкость попадает под действие пучка электронов. Поднимаясь выше, каждый элемент жидкости последовательно проходит все зоны распределения поглощенной дозы по толщине (формула (1)), получая без учета краевых эффектов одинаковую интегральную дозу. При проявлении жидкости над плоскостью выходного окна реакционной камеры она захватывается потоком газа и сносится со скоростью V
Vг частично в виде аэрозоля в ловушку 5 и далее в приемный резервуар 4. Слоем "сдуваемой" жидкости (на чертеже заштрихован) вносится неоднородность поглощенной дозы. Этот неоднородный слой с максимальной толщиной
<<
макс представляет собой смесь жидкости и газа (газ поршня и часть реакционного газа, перешедшая в свободное состояние) - аэрозоль. Например, при Е = 1,5 МэВ,
макс = 0,007 м, Qж = 100 м3/ч
0,028 м3/с, Vж = 0,07 м/с, длине зоны облучения 1-4 м,
h = 0,1 м, Vг = 20 м/с, что легко достигается с помощью вентиляторов с Qг
3000 м3/ч, величина
не превышает 0,0007 м. В слое аэрозоля поглощается незначительная часть Еа
/
макс энергии электронного пучка. Эффективность
a использования поглощенной энергии Eа при облучении аэрозоля существенно превышает
ж при радиационно-химической обработке жидкости
a/
ж
10 - Подзорова Е.А. Очистка коммунальных сточных вод облучением ускоренными электронами в потоке аэрозоля. Химия высоких энергии, 1995, т. 29, N 4, с. 280), что выравнивает эффективность обработки по сечению выходного окна реакционной камеры. Таким образом, в результате реализации предлагаемого способа возможна радиационно-химическая обработка потока жидкости с толщиной слоя вдоль направления распространения пучка электронов, определяемой расходом, неограниченно превышающей толщину слоя полного поглощения, с облегчением высокой степени однородности величины поглощенной дозы и практически одинаковой эффективности обработки по всему объему жидкости. В радиационно-химической установке, построенной по предлагаемому способу, снимается проблема конечности толщины слоя полного поглощения, что открывает возможность использования более простых, долговечных и мощных ускорителей электронов с энергией частиц E < 500 кэВ.Формула изобретения
Способ электронно-лучевой обработки жидкостей, основанный на взаимодействии ускоренных электронов с жидкостью, содержащей газовую фазу и движущейся снизу вверх навстречу пучку электронов, отличающийся тем, что в плоскости выходного окна реакционной камеры создают поток газа, движущийся поперек потока жидкости и пучка электронов, ширина которого равна ширине потока жидкости, с динамическим давлением, превышающим динамическое давление потока жидкости, прохождение жидкости через реакционную камеру обеспечивают созданием избыточного гидростатического давления в резервуаре-накопителе, сообщающимся с реакционной камерой, равного или превышающего динамическое давление потока газа, в нижнюю часть резервуара-накопителя подают реакционный газ на расстоянии от точки ввода до выходного окна реакционной камеры, которое обеспечивает его растворение в жидкости за время движения от точки ввода до выходного окна реакционной камеры.РИСУНКИ
Рисунок 1



















