Тестовая структура для градуировки сканирующего зондового микроскопа
Изобретение относится к области туннельной и атомно-силовой микроскопии, а именно к устройствам, обеспечивающим градуировку сканирующего зондового микроскопа. Предлагается тестовая структура для градуировки сканирующего зондового микроскопа, состоящая из снования и расположенных на нем микроструктур. Микроструктуры имеют два или более параллельных основанию участка. Участки находятся на разных расстояниях от основания. Структура обеспечивает градуировку сканирующего зондового микроскопа не только в горизонтальной плоскости, но и по нормальной к основанию оси, а также позволяет производить градуировку сканирующего зондового микроскопа в горизонтальной плоскости в кратчайшее время за счет сканирования не всей площади, занимаемой микроструктурой на основании тестовой структуры, а лишь двух отрезков, параллельных соответственно быстрому и медленному направлениям сканирования, в условиях, когда искомый коэффициент масштабирования по горизонтальной оси зависит от отклонения иглы сканирующего зондового микроскопа от основания тестовой структуры. 11 ил.
Изобретение относится к области туннельной и атомно-силовой микроскопии, а именно к устройствам, обеспечивающим градуировку сканирующего зондового микроскопа (СЗМ).
Известна тестовая структура для градуировки СЗМ [1], состоящая из монокристаллического основания с расположенными на нем микроструктурами с верхней горизонтальной поверхностью, обладающей четко заданными геометрическими параметрами. Такая структура позволяет проводить достаточно точную градуировку СЗМ в горизонтальной плоскости, однако наличие только одной разности высот между основанием и верхней поверхностью микроструктур не позволяет использовать ее для точной градуировки СЗМ в нормальном к основанию направлении. Действительно, для учета искажений, вносимых нелинейностью и гистерезисом отклоняющей механики в данные о высотах исследуемого рельефа, необходимо получить в процессе градуировки СЗМ как можно более детальную зависимость его показаний от перепадов высот на тестовой структуре. Такое требование явно не может быть удовлетворено с помощью тестовой структуры (ТС), описанной в [1] , так как она предполагает только одну контрольную точку, соответствующую разности высот между основанием и верхней горизонтальной поверхностью микроструктуры (МС). Необходимо отметить, что обычно сканирование поверхности с помощью СЗМ представляет собой быстрое смещение зонда в пределах границ сканирования вдоль одной из горизонтальных осей (быстрое направление сканирования) и одновременное медленное смещение зонда вдоль другой горизонтальной оси (медленное направление сканирования). Таким образом, получаемая информация о рельефе представляет собой группу профилей поверхности, покрывающих всю исследуемую площадку. Градуировка СЗМ заключается в сканировании с его помощью специальной ТС с известными геометрическими параметрами. В принципе, если точно задать угол между, например, быстрым направлением сканирования и ТС, то одного профиля может быть достаточно для градуировки СЗМ по этому направлению. Однако при каждой конкретной процедуре градуировки ориентацию тестовой структуры относительно направлений сканирования СЗМ трудно выдержать с достаточной точностью и обычно она является достаточно произвольной. Поэтому для проведения градуировки в горизонтальной плоскости необходимо провести подробное многопрофильное сканирование достаточно большой площади ТС так, чтобы в сосканированной площадке полностью помещалась хотя бы одна МС. Действительно, предположим (см. фиг. 1), что МС (1) представляют собой кубики. Обозначим как (2) угол между быстрым направлением сканирования (3) и направлением, заданным одной из граней (4) верхней поверхности МС. Проведем сканирование только по отрезку (3) и перпендикулярному ему (5), которые заданы соответственно быстрым и медленным направлениями сканирования. Так как угол (2) заранее неизвестен, то полученные в результате сканирования длины (6) и (7), определяемые соответственно пересечениями граней верхней поверхности МС с сосканированными отрезками (3) и (5), не могут позволить определить длину грани МС (4), и значит сканирование всего двух отрезков (3) и (5) не дает возможности отградуировать СЗМ. Для градуировки необходимо провести большое количество проходов сканирования по отрезкам, параллельным (3) так, чтобы восстановить вид всей верхней поверхности МС. Из этого вида можно получить длину грани (4) в относительных единицах и, так как эта длина в абсолютных единицах задана при изготовлении ТС, отградуировать СЗМ. Сам процесс такого многопроходного сканирования занимает относительно небольшое время (порядка нескольких секунд), однако математическая обработка такого большого объема данных и восстановление рельефа поверхности требует нескольких десятков минут, что является определенным неудобством особенно при промышленном применении СЗМ. Наиболее близкой к заявляемой по технической сущности и достигаемому результату является тестовая структура [2], состоящая из основания и расположенных на нем выступающих микроструктур, имеющих одинаковые противоположные боковые поверхности с заданными геометрическими параметрами. Указанные боковые поверхности имеют микрорельеф, имеющий, в частности, в перпендикулярном к основанию сечении пилообразную форму с треугольными зубцами. Данная ТС позволяет проводить градуировку СЗМ в нормальном к основанию направлении, однако в связи с тем, что микрорельеф боковых поверхностей не имеет участков, параллельных основанию ТС, точность такой градуировки будет низка. Кроме того, как будет показано ниже, из-за отсутствия таких параллельных основанию участков процедура быстрой градуировки в горизонтальной плоскости с помощью предложенной в [2] ТС требует сканирования в условиях, когда искомый коэффициент масштабирования по горизонтальной оси не зависит от отклонения иглы СЗМ от основания ТС, что на практике является невыполнимым требованием. Цель изобретения - создание ТС для СЗМ, повышающей точность градуировки СЗМ по нормальной к основанию оси, а также позволяющей проводить градуировку СЗМ в горизонтальной плоскости в кратчайшее время за счет сканирования не всей площади, занимаемой МС на основании ТС, а лишь двух отрезков, параллельных соответственно быстрому и медленному направлениям сканирования, в условиях, когда искомый коэффициент масштабирования по горизонтальной оси зависит от отклонения иглы СЗМ от основания ТС. Это достигается тем, что в качестве ТС для градуировки СЗМ используют ТС, состоящую из основания и расположенных на нем МС, имеющих два или более параллельных основанию ТС участка, находящихся на разных точно определенных при изготовлении расстояниях от основания ТС. На фиг. 2-6 изображены некоторые из возможных вариантов предлагаемых МС. Вся же предлагаемая ТС представляет собой упорядоченную совокупность таких МС, расположенных на одном основании. Цифрами (1), (2) и (3) на фиг. 2-6 обозначены участки с различными заданными при изготовлении расстояниями от основания (4) ТС. При использовании предлагаемых ТС становится возможным повышение точности градуировки СЗМ в нормальном к основанию направлении. Наиболее подходящим для такой градуировки типом МС является набор "ступенек" (см. фиг. 7), плоскости которых (1) и (2) лежат под углом






l5 - расстояние (5) прохода через пятый участок МС с фиксированным расстоянием от основания (см. фиг. 9b);
c - длина грани (8) МС (см. фиг. 9a);
d - длина грани (9) МС (см. фиг. 9a);
l2 - расстояние (2) прохода через первый участок МС с фиксированным расстоянием от основания (см. фиг. 9b);
k1 - коэффициент масштабирования при нормальном отклонении иглы СЗМ, равном высоте основания (1) ТС (см. фиг. 9a). Откуда для коэффициентов масштабирования и угла



c - длина грани (8) МС (см. фиг. 9a);
l1 - расстояние (1) прохода через первый участок МС с фиксированным расстоянием от основания (см. фиг. 9b);
b - длина грани (7) МС (см. фиг. 9a);
a - длина грани (6) МС (см. фиг. 9a);
l3 - расстояние (3) прохода через третий участок МС с фиксированным расстоянием от основания (см. фиг. 9b);
l5 - расстояние (5) прохода через пятый участок МС с фиксированным расстоянием от основания (см. фиг. 9b);
k1 - коэффициент масштабирования при нормальном отклонении иглы СЗМ, равном высоте основания (1) ТС (см. фиг. 9a);
l2 - расстояние (2) прохода через первый участок МС с фиксированным расстоянием от основания (см. фиг. 9b);
d - длина грани (9) МС (см. фиг. 9a);
k2 - коэффициент масштабирования при нормальном отклонении иглы СЗМ, равном высоте участка (2) МС (см. фиг. 9a);
k3 - коэффициент масштабирования при нормальном отклонении иглы СЗМ, равном высоте участка (3) МС (см. фиг. 9a);
l4 - расстояние (4) прохода через четвертый участок МС с фиксированным расстоянием от основания (см. фиг. 9b). Таким образом, мы получили все коэффициенты масштабирования для данной МС. При этом полученные выражения так просты, что представляется возможным проводить такую градуировку в автоматическом режиме в реальном времени. Если необходимо измерить коэффициенты масштабирования для большего количества высот, то можно усложнить МС, включив в нее дополнительные участки, параллельные основанию ТС и лежащие на разном расстоянии от него, как например изображено на фиг. 10. Если в МС, изображенной на фиг. 9a, присутствует всего одна "ступенька", обозначенная как (3), то МС, изображенная на фиг. 10, включает в себя уже пять "ступенек", обозначенных цифрами (1), (2), (3), (4) и (5). Вообще при наличии (n-4) "ступенек" в МС, аналогичной изображенной на фиг. 10, система уравнений, аналогичная вышеприведенной для структуры с одной "ступенькой", будет содержать (n-1) уравнение и (n-1) неизвестную и запишется следующим образом:

a - длина грани многоступенчатой МС, аналогичной грани (6) (см. фиг. 9a);
l1 - расстояние прохода через первый участок многоступенчатой МС с фиксированным расстоянием от основания, аналогичное расстоянию (1) (см. фиг. 9b);

k2 - коэффициент масштабирования при нормальном отклонении иглы СЗМ, равном высоте участка многоступенчатой МС, аналогичного участку (2) (см. фиг. 9a);
b - длина грани многоступенчатой МС, аналогичной грани (7) (см. фиг. 9a);
l3 - расстояние прохода через участок многоступенчатой МС с фиксированным расстоянием от основания, аналогичное расстоянию (3) (см. фиг. 9b);
ln - расстояние прохода через последний участок многоступенчатой МС с фиксированным расстоянием от основания, аналогичное расстоянию (5) (см. фиг. 9b);
n - число на четыре большее, чем число "ступенек" в многоступенчатой МС;
i - индекс, принимающий значение от 4 до (n-1) включительно;
li - расстояние прохода через участок с номером (i-1) многоступенчатой МС с фиксированным расстоянием от основания, аналогичное расстоянию (4) (см. фиг. 9b), которое соответствует участку (3) МС (см. фиг. 9a);
ki-1 - коэффициент масштабирования при нормальном отклонении иглы СЗМ, равном высоте участка с номером (i-1) многоступенчатой МС, аналогичного участку (3) (см. фиг. 9a);
c - длина грани многоступенчатой МС, аналогичная длине грани (8) (см. фиг. 9a);
d - длина грани многоступенчатой МС, аналогичная длине грани (9) (см. фиг. 9a);
l2 - расстояние прохода через участок многоступенчатой МС с фиксированным расстоянием от основания, аналогичное расстоянию (2) (см. фиг. 9b);
k1 - коэффициент масштабирования при нормальном отклонении иглы СЗМ, равном высоте основания (1) ТС (см. фиг. 9a). Решение такой системы уравнений очевидно также возможно в автоматическом режиме в реальном времени. Рассмотрим, кроме того, вопрос почему МС, изображенная на фиг. 9a, должна иметь хотя бы два параллельных основанию участка, расположенных на разном расстоянии от основания. Казалось бы, если не ставить целью нахождение зависимости коэффициента масштабирования в горизонтальном направлении от нормального отклонения иглы СЗМ, то МС (1), изображенная на фиг. 11a, аналогичная МС, изображенной на фиг. 9a, но имеющая всего один параллельный основанию ТС участок, позволяет повести быструю градуировку в горизонтальном направлении. Однако в случае применения МС, изображенной на фиг. 11a, становится тяжело разделить участки траектории (2), относящиеся к МС (1) и МС (3). Действительно, ведь все МС должны иметь одинаковые параметры, в том числе и высоту от основания ТС, так как рабочее поле СЗМ ограничено и нельзя сказать, какие именно МС попали в него. Казалось бы, сигнал от двух соседних МС, полученный при сканировании по траектории (2), изображенный на фиг. 11b, можно разделить, если они будут лежать друг от друга на расстоянии большем, чем максимальный размер МС; но мало того, что такое решение приведет к неоправданному расходу площади ТС, ситуация осложнена тем, что в полученном при сканировании сигнале длины отрезков зависят от нормального отклонения иглы и короткие участки МС могут, например, давать более протяженный сигнал, чем длинные расположенные между микроструктурами участки, соответствующие основанию ТС. Также можно отметить, что в случае применения МС, изображенной на фиг. 11a, становится сложной задачей различение рабочей траектории сканирования (2) и нерабочей (4), в то время как применение МС, аналогичной изображенной на фиг. 10 с боковыми участками (6), позволяет легко отделить рабочие и непригодные для вышеописанного процесса градуировки траекторий иглы. Решение вышеуказанных проблем становится особенно сложным в автоматическом режиме в реальном времени. Все предыдущие выкладки базировались на том, что в пределах одной "ступеньки" игла СЗМ не испытывает отклонения в нормальном к основанию направлении, а значит коэффициент масштабирования является константой. Если же верхние грани "ступеней" будут не параллельны основанию, то, в связи с тем, что зависимость коэффициента масштабирования по горизонтальному направлению сканирования от нормального отклонения иглы СЗМ заранее неизвестна и, по сути, ее нахождение и является задачей процесса градуировки, вывод уравнений, аналогичных приведенным выше, невозможен. Таким образом, только применение МС с двумя и более параллельными основанию ТС участками, находящимися на разных расстояниях от основания, позволяет проводить градуировку СЗМ в горизонтальном направлении в условиях существенной зависимости коэффициента масштабирования в горизонтальном направлении от нормального отклонения иглы СЗМ от основания ТС. Подобным же образом проводится градуировка СЗМ в перпендикулярном направлении. Для этого необходимо лишь, чтобы в ТС присутствовала МС, аналогичная описанной, но повернутая относительно первой на угол

Фиг. 1. Демонстрация невозможности быстрой градуировки с использованием существующих тестовых структур с одним участком с заданным расстоянием от основания. Фиг. 2-6. Различные варианты предлагаемых микроструктур для тестовой структуры, имеющих по три параллельных основанию участка, находящихся на разных расстояниях от основания. Фиг. 7. Демонстрация процедуры градуировки по нормальной к основанию тестовой структуры оси:
a) характерный профиль предлагаемой микроструктуры;
b) характерный профиль микроструктуры, представленной в патенте RU N2121656. Фиг. 8. Прохождение иглой СЗМ грани "ступеньки" тестовой структуры в направлении "спуска". Фиг. 9. Демонстрация способа быстрой градуировки с использованием предлагаемой тестовой структуры:
a) микроструктура, имеющая два параллельных основанию участка, находящихся на разных расстояниях от основания, и ее быстрое сканирование;
b) профиль микроструктуры, полученный в результате быстрого сканирования. Фиг. 10. Микроструктура, имеющая пять параллельных основанию участков, находящихся на разных расстояниях от основания, и имеющая боковые участки для разделения рабочих и непригодных для процесса быстрой градуировки траекторий иглы. Фиг. 11. Демонстрация невозможности быстрой градуировки с использованием тестовой структуры, аналогичной предложенной, но лишь с одним участком с заданным расстоянием от основания:
a) микроструктура, имеющая один параллельный основанию участок с заданным расстоянием от основания, и ее быстрое сканирование;
b) профиль микроструктуры, полученный в результате быстрого сканирования. Источники информации
1. Патент ЕПВ N 0676614, кл. G 01 В 1/00, 1995. 2. Патент RU N 2121656, кл. G 01 В 15/00, 1997.
Формула изобретения
РИСУНКИ
Рисунок 1, Рисунок 2, Рисунок 3, Рисунок 4, Рисунок 5, Рисунок 6, Рисунок 7, Рисунок 8, Рисунок 9, Рисунок 10, Рисунок 11