Дозатор
Использование: изобретение относится к механике и может найти применение в конструкциях технологических машин в полупроводниковой промышленности для обеспечения равномерного распределения клея по плоскости кристаллодержателя микросхемы и получения 100%-ного заполнения им зазора между кристаллодержателем и кристаллом. Сущность изобретения: диаметр клееподводящих каналов принимают в диапазоне от 0,4 до 1,0 мм, а размеры наносящей площадки, количество каналов и их расположение определяют по формулам. Расстояние между осями крайних каналов в горизонтальном ряду S 0,2 = a-d, где a ширина кристалла, мм; d диаметр канала, мм. Расстояние между осями крайних каналов в горизонтальном ряду T
0,2 = b-d, где b длина кристалла. Количество промежутков между осями каналов в горизонтальном ряду n S/x, где x 1,6d 2,6 d расстояние между осями соседних каналов в горизонтальном ряду. Количество промежутков между осями соседних каналов в вертикальном ряду m T/y, где y 1,6 d 2,6 d расстояние между осями соседних каналов в вертикальном ряду. Если n или m не определяются целым числом, то изменяют S или T в пределах
0,2 мм, а также величины x и y от 1,6 d до 2,6 d до тех пор, пока n и m не определяется целыми числами. После чего определяют ширину наносящей площадки f x x n + 2 d и длину наносящей площадки g ym + 2 d. 3 ил.
Изобретение относится к механике и может найти применение в конструкциях технологических машин, производящих операцию подачи дозированного количества вязких компонентов на определенные участки деталей, например в полупроводниковой промышленности при посадке кристаллов микросхем на клей.
Известен дозатор с дозирующей камерой и дозирующим поршнем, на котором установлен подпружиненный управляющий поршень, при этом дозирующая камера выполнена с возможностью регулирования ее объема и образована дозирующим и управляющим поршнями, причем дозирующий поршень образует с корпусом впускной, а управляющий поршень с корпусом выпускной клапаны [1] Однако такой дозатор обладает высокой себестоимостью. Известен также дозатор, содержащий стакан с установленными в нем подшипниками, в которых вращается валик, приводящий в движение ракель, установленный на его конце, противоположном от приводного, ракель вращается в крышке и установлен на валу посредством вкладыша и винта. При этом клей подается из крышки дозатора через клееподводящие трубки малого диаметра, установленные в крышке, количество трубок в зависимости от размеров кристалла принимают в диапазоне от 1 до 4 [2] Но такой дозатор не обеспечивает равномерное нанесение клея на плоскость кристаллодержателя микросхемы. В практике же при установке кристаллов микросхем на кристаллодержатели посредством теплопроводящего клея нужно обеспечить 100%-ное заполнение клеем зазора между кристаллом и кристаллодержателем, а это можно получить только равномерным нанесением клея на всю поверхность кристаллодержателя. Цель изобретения обеспечить равномерное распределение клея по плоскости кристаллодержателя микросхемы и получить 100%-ное заполнение им зазора между кристаллодержателем и кристаллом. Для этого в дозаторе, содержащем стакан с установленными в нем подшипниками, в которых вращается валик, приводящий во вращение ракель, установленный на его конце, противоположном от приводного, вращаемый в крышке, снабженной клееподводящими каналами, и установленный на валике посредством вкладыша, согласно изобретению диаметр клееподводящих каналов принимают в диапазоне 0,4-1,0 мм, расстояние между осями крайних каналов в горизонтальном ряду определяют по формуле S





Формула изобретения
ДОЗАТОР, содержащий стакан с установленными в нем подшипниками, в которых вращается валик, приводящий во вращение ракель, установленный на его конце, пропивоположном от приводного, вращаемый в крышке, снабженной клееподводящими каналами, и установленный на валике посредством вкладыша, отличающийся тем, что диаметр клееподводящих каналов принимают в диапазоне 0,4 1,0 мм, расстояние между осями крайних каналов в горизонтальном ряду определяют по формуле s
где a ширина кристалла микросхемы, мм;
d диаметр канала, мм,
расстояние между осями крайних каналов в вертикальном ряду
T

где b длина кристалла микросхемы, мм,
количество промежутков между осями каналов в горизонтальном ряду

где x 1,6d 2,6d,
количество промежутков между осями каналов в вертикальном ряду

где y 1,6d 2,6d,
если n или m не определяются целыми числами, то изменяет величину s или T в пределах 0,2 мм, а также величины x и y от 1,6d до 2,6d до тех пор, пока n и m не определятся целым числом,
ширина наносящей площадки
f x

длина наносящей площадки
g y

РИСУНКИ
Рисунок 1, Рисунок 2, Рисунок 3