Фотополимеризующаяся композиция
Авторы патента:
Область использования: изготовление защитно-упрочняющих покрытий оптических волокон в волоконной оптике. Сущность изобретения: фотополимеризующаяся композиция содержит 2-гидрокси-3-метакрилоилокси-пропиловый эфир 4-глицидилоксибензойной кислоты, 2,4,6-трис-(2-гидрокси-3-акрилоилоксипропил)изоцианурат и фотоинициатор. Увеличиваются прочностные показатели покрытий - модуль упругости в 3-25 раз, прочность при разрыве -1,1-1,6 раза, а также устойчивости к нагреванию (потеря массы при 200°С/30 мин до 5,8%). 1 табл.
Изобретение относится к волоконной оптике, конкретно к фотополимеризующейся композиции на основе акрилатов, которая может найти применение в качестве защитно-упрочняющего покрытия оптического волокна.
Известна композиция для защитных полимерных покрытий световодов на основе диакрилатного олигомера формулы I, аппарата (















при следующих соотношениях компонентов, мас.ч. Эпоксиакрилат 100 Трисакрилат 40-300 Фотоинициатор (ДМФА) 3-5
Введение в композицию с мономером II трисакрилата IV позволяет значительно увеличить прочностные показатели при разрыве (












Фотоинициатор 2,2-диметокси-2-фенилацетофенон (ДМФА) бледно-желтое кристаллическое вещество с т.пл. 67-70оС [5] Является товарным продуктом. П р и м е р 1. 1,3,5-Трис-(2-гидрокси-3-акрилоилоксипропил)изоцианурат (IV). К смеси 35,2 г (0,118 моль) триглицидилизоцианурата прибавляли 38,4 г (0,533 моль) акриловой кислоты, 0,22 г (1,2 ммоль) трибутиламина и 0,13 г (1,2 ммоль) гидрохинона и нагревали полученную суспензию при перемешивании и 100оС в течение 1 ч. непрореагировавшую акриловую кислоту удаляли путем промывки хлороформного раствора продукта реакции водой или отгонкой акриловой кислоты в вакууме при 70-80оС. Полученная вязкая жидкость представляет собой, в основном, 1,3,5-трис(2-гидрокси-3- акрилоилоксипропил)изоцианурат. Rf 0,32 [на пластинках "Силуфол" (Чехо-Словакия), элюент смесь дихлорэтан-метанол 10:1] Выход 45,5 г (75%). В случае выделения продукта путем отгонки выход количественный. ИК-спектр (в тонком слое), см-1,






Формула изобретения

при следующих соотношениях компонентов, мас.ч. 2-Гидрокси-3-метакрилоилоксипропиловый эфир 4-глицидилоксибензойной кислоты 100
1,3,5-трис(2-Гидрокси-3-акрилоилоксипропил)изоцианурат указанной формулы 40 300
2,2-Диметокси-2-фенилацетофенон 3 5
РИСУНКИ
Рисунок 1
Похожие патенты:
3-замещенные 2-ариламино-1,4-нафтохиноны в качестве фоторезистов для вакуумного осаждения // 2027712
Изобретение относится к новым химическим соединениям, конкретно к 2-ариламино-3-циклоалкиламино-1,4-нафтохино- нам общей формулы (I) где Х = м-COOCH3, п-COOCH3, п-COOC2H5, м-CF3, п-COCH3, Y = -N , -N , -NO
Негативный фоторезист // 1817861
Изобретение относится к полиграфической промышленности, используется для изготовления цилиндрических фотополимерных форм глубокой печати и позволяет повысить качество форм
Изобретение относится к способу изготовления мелкорельефных фотополимерных печатных форм на основе жидкой фотополимеризующейся композиции
Способ получения сеткотрафаретного экрана // 1618157
Изобретение относится к полиграфии и позволяет повысить разрешающую способность экрана и улучшить качество изображения
Изобретение относится к спектральному приборостроению и позволяет сократить время изготовления копии решетки и повысить ее климатическую устойчивость
Фотополимеризующаяся композиция // 440952
Жидкая фотополимеризующаяся композиция // 440951
Изобретение относится к химико-фотографическим фоторезистивным формным материалам, в частности к фотополимеризующимся композициям (ФПК) для изготовления эластичных печатных форм для флексографической печати в полиграфии
Фоторезистная композиция и полимер // 2194295
Изобретение относится к радиационно-чувствительной фоторезистной композиции
Фоторезистная композиция // 2199773
Изобретение относится к радиационно-чувствительной фоторезистной композиции
Изобретение относится к чувствительной к облучению композиции с изменяющимся показателем преломления, используемой в оптико-электронной области и области устройств отображения
Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям на основе акриловых олигомеров и может быть использовано в лазерной стереолитографии
Изобретение относится к чувствительной к излучению композиции с изменяемым при воздействии излучения показателем преломления, содержащая (А) разлагаемое кислотой соединение, (В) неразлагаемое кислотой соединение, имеющее более высокий показатель преломления, чем у разлагаемого кислотой соединения (А), (С) чувствительный к излучению разлагающий агент, представляющий собой чувствительный к излучению кислотообразователь, и (D) стабилизатор
Изобретение относится к чувствительным к излучению композициям, изменяющим показатель преломления, позволяющим получить новую модель распределения показателя преломления, в частности оптический материал, используемый в области оптоэлектроники и устройствах отображения информации
Изобретение относится к чувствительным к излучению композициям с изменяющейся диэлектрической проницаемостью, обеспечивающим модель диэлектрической проницаемости, используемой в качестве изоляционных материалов или конденсатора для схемных плат
Дренаж для антиглаукомных операций // 2309781
Изобретение относится к эксплантодренажу для хирургического лечения рефрактерной глаукомы
Изобретение относится к области изготовления пленочного фоторезиста и сеткотрафаретных экранов на его основе, используемых в производстве печатных плат, керамических корпусов интегральных схем, изделий полиграфической промышленности