Использование: для построения компактных антенных полигонов СВЧ-диапазона и проведения антенных измерений. Сущность изобретения: коллиматор содержит осесимметричную линзу 1, выполненную из однородного диэлектрика, тангенс угла потерь которого выбран в пределах 5
10-3 ...5
10-2 , облучатель 2 с осесимметричной диаграммой направленности шириной равной (0.4 ...2.1)2
0 , где
0 - угол раскрыва линзы, при этом толщина линзы tл выбрана из условия равенства затухания в центральной части линзы уровню поля на ее кромке и определяется соотношением: tл=
д/(
tg
)
ln[A(
0
f(
0)] , где
д - длина волны в диэлектрике; tg
- тангенс угла потерь; A(
0) - значение множителя амплитудного распределения линзы на ее кромке; f(
0) - значение диаграммы направленности облучателя в направлении на кромку линзы. 2 ил.
Изобретение касается антенных измерений и может быть использовано для построения компактных антенных полигонов СВЧ-диапазона.
Для уменьшения размеров антенного полигона используют коллиматоры, у которых вблизи от раскрыва формируется плоская волна, распространяющаяся перпендикулярно к раскрыву.
Известен коллиматор СВЧ, который содержит осесимметричную линзу (t = 20 мм), выполненную из однородного диэлектрика с малыми диэлектрическими потерями (фторопласт), и облучатель с осесимметричной диаграммой направленности, установленный в фокусе линзы.
Недостатком этого коллиматора является невысокий уровень электромагнитного поля в его рабочей зоне, обусловленный тем, что из-за требования однородности распределения электромагнитного поля в раскрыве коллиматора необходимо использовать облучатели с широкой диаграммой направленности. Широкий сектор облучения приводит к рассеянию значительной доли мощности вне коллиматора и как следствие - к низкому уровню поля в рабочей зоне антенного полигона.
Цель изобретения - увеличение уровня электромагнитного поля в рабочей зоне коллиматора без ухудшения однородности поля.
Для этого в устройстве, содержащем осесимметричную линзу, выполненную из однородного диэлектрика, и облучатель с осесимметричной диаграммой направленности, установленный в фокусе линзы, облучатель выполнен с шириной диаграммы направленности равной (0,4-2,1) 2
o где 2
o - угол раскрыва линзы, линза выполнена из диэлектрика с потерями, причем значение тангенса угла потерь выбрано в пределах 5х10
-3-5х10
-2, а толщина линзы t
л выбрана из условия равенства затухания в центральной части линзы уровню поля на ее кромке и определяется соотношением t
л=

ln[A(
0
f(
0)], (1) где
д - длина волны в диэлектрике; tg

- тангенс угла потерь; A (
o) - значение множителя амплитудного распределения линзы на ее кромке; f (
o) - значение диаграммы направленности облучателя в направлении на кромку линзы.
Коллиматор СВЧ показан на фиг.1 и 2.
Он содержит диэлектрическую линзу 1, облучатель 2, поглощающий материал 3, металлический (экранирующий) корпус 4.
Коллиматор СВЧ работает следующим образом.
Облучателем 2 создается волна, падающая на линзу 1 и имеющая волновой фронт, близкий к сферическому в секторе
o (2
o угол раскрыва линзы). После преломления в линзе 1 вблизи ее теневой поверхности формируется электромагнитное поле с почти синфазным распределением в плоскостях, перпендикулярных фокальной оси. Это поле должно, во-первых, иметь малые отклонения фазы


от постоянной величины, что достигается выбором облучателя (имеющего четко выраженный фазовый центр). Во-вторых, поле должно мало отличаться от однородного, т.е. плотность потока мощности в поперечных сечениях должна мало отличаться от постоянной величины. На выходе линзы поле должно быть близким к однородному, ширина ДН облучателя (2
0,5) должна быть по крайней мере больше угла раскрыва.
Расширение ДН облучателя приводит к уменьшению его коэффициента усиления и, следовательно, к уменьшению уровня поля в рабочей зоне коллиматора.
Ширина ДН облучателя выбирается равной (0,4-2,1)2
o. При этом увеличивается спад поля к краям линзы, т.е. возрастает его неравномерность. Для компенсации этого эффекта линза выполнена из материала с заметными диэлектрическими потерями. Наличие потерь в диэлектрике ослабляет поле в центральной части в большей мере, чем на периферии линзы.
Варьируя диаграмму направленности облучателя, параметры линзы и затухание в материале, можно восстановить однородность поля, ухудшенную сужением ДН облучателя. Для этого должно выполняться условие равенства затухания в центре линзы уровню поля на ее краю, т.е.
f
2(
0)A
2(
0)= e

, (2) где f
л - толщина линзы;

- коэффициент затухания.
Таким образом наибольшая однородность поля будет, когда толщина линзы выбрана равной (1).
Существует множество значений толщины линзы, при которых можно обеспечить более равномерное поле за счет затухания в материале линзы. Однако при определенных значениях ширины ДН облучателя и тангенса угла потерь можно добиться увеличения уровня поля по сравнению с линзой без потерь.
Оптимальному значению соответствует ширина ДН облучателя, равная (при значениях 2
o = 20-50
о).
2
0,5= 2
o (0,595-0,629) , (3) а уровень поля на краю линзы, равный затуханию в центральной ее части e

=cos
m
0=0,374...0,405 (4) При выполнении линзы из материала без потерь ширина ДН облучателя должна быть большей. Сравнение плотностей потока мощности для линзы без потерь, но с более широкой ДН и линзы с потерями, но более узкой ДН облучателя показывает, что результирующий эффект состоит в увеличении плотности потока мощности при наличии потерь. Наличие потерь дает эффект увеличения плотности потока мощности в 2,4-1,7 раза.
Положительный эффект сохраняется и при более узких ДН облучателя. Однако из-за возрастания фазовой ошибки излученного поля в направлениях, удаленных от нормали, выбирать уровень облучения краев линзы менее

-10 дБ нецелесообразно. Кроме того, "выигрыш" в этом случае снижается и составляет при уровне -10 дБ величину порядка 1,7-1,09, при тех же параметрах 2
o. Ширина ДН облучателя при этом выбирается равной (0,38-0,4)2
o.
Увеличение уровня сигнала при выполнении линзы из материала с потерями в действительности будет значительно большим, так как из-за влияния амплитудного множителя, не равного единице (как это принималось выше), ширина ДН облучателя в прототипе не будет равной 2
o, а значительно большей (близкой к 180
о).
Устройство может быть реализовано следующим образом. Необходимое значение потерь достигается применением в качестве диэлектрика материала с умеренными потерями, например пенополиуретана. В зависимости от марки значение

для них составляет от 1,05 до 1,2-1,4, а tg

= 10
-3-10
-2. Линза может выполняться с преломляющей освещенной и плоской теневой поверхностью или двоякопреломляющей. Облучатель может быть выполнен в виде синфазного рупора с импедансными стенками (канавками). Требуемое значение ширины ДН 15-35
о легко достижимо.
Кроме того, коллиматор СВЧ улучшает равномерность поля в рабочей зоне коллиматора без связи со свойствами облучателя. В линзе существуют многократно отраженные волны от обеих преломляющих поверхностей. Складываясь с прошедшей волной, они вызывают осцилляцию амплитудного распределения поля.
Таким образом, амплитуда осцилляций оказывается меньшей (для оптимального случая

в 2,5 раза, для случая с уровнем поля на краю - 10 дБ, соответственно в 10 раз).
Формула изобретения
КОЛЛИМАТОР СВЧ, содержащий осесимметричную линзу, выполненную из однородного диэлектрика и облучатель с осесимметричной диаграммой направленности, установленной в фокусе линзы, отличающийся тем, что облучатель выполнен с шириной диаграммы направленности, равной (0,4...2,1) 2
o , где 2
o - угол раскрыва линзы, а линза выполнена из диэлектрика с потерями, причем значение тангенса угла потерь диэлектрика выбрано в пределах tg

= 0,5

10
-3 - 5

10
-2 , толщина линзы выбрана равной t
л=

ln[A(
0
f(
0)],
где
д - длина волны в диэлектрике;
tg

- тангенс угла потерь диэлектрика;
A(
o) - значение амплитудного множителя линзы на ее кромке;
f (
o) - значение диаграммы направленности облучателя на его кромке.
РИСУНКИ
Рисунок 1,
Рисунок 2