Устройство возбуждения газового лазера
Сущность изобретения: устройство возбуждения лазера содержит ВЧ - источники питания, задающий ВЧ - генератор, квадратурный делитель мощности, а также четыре реактивных двухполюсника. Вход задающего ВЧ - генератора через квадратурный делитель мощности подключен к входам ВЧ - источников питания, а их выходы - к проводникам резонатора в точках подключения реактивных двухполюсников, два реактивных двухполюсника подключены к проводникам с противоположной стороны. 2 ил.
Изобретение относится к квантовой электронике и может быть использовано при создании газоразрядных лазеров.
Известны устройства возбуждения газового лазера, которые создают в газоразрядной трубке лазера продольный разряд постоянного тока или продольный высокочастотный (ВЧ) разряд (см. Ищенко Е. Ф. , Климков Ю. М. Оптические квантовые генераторы. М. : Советское радио, 1968, с. 26). Однако продольному разряду свойственны паразитные реактивные колебания, ухудшающие спектральные характеристики лазерного излучения. Другим недостатком подобных устройств является необходимость применять поджигающее устройство, а в случае разряда постоянного тока - вводить в газоразрядную трубку анод, катод, использовать высоковольтный источник питания. Известны также устройства возбуждения газового лазера, которые создают в газоразрядной трубке поперечный ВЧ-разряд. Они содержат ВЧ-источник питания и связанный с его выходом ВЧ-резонатор, в котором расположена газоразрядная трубка (см. Юдин В. И. Исследование гелий-неонового ОКГ с высокочастотным разрядом. - "Квантовая электроника", 1973, N 3, с. 134). Подобные устройства имеют недостаточную эффективность возбуждения рабочей среды лазера, что связано с особенностями распределения ВЧ-электрического поля резонатора вдоль газоразрядной трубки и в ее поперечном сечении. В устройстве, принятом за прототип, поперечный ВЧ-разряд создается высокочастотным электрическим полем резонатора, который образован отрезком симметричной двухпроводной линии, проводники которой размещены в общем экране и расположены вдоль оси газоразрядной трубки лазера. Несимметричный выход ВЧ-источника питания подключен к середине отрезка двухпроводной линии, при этом один из проводников имеет относительно экрана нулевой ВЧ-потенциал (см. Абрамов В. И. и др. Населенность состояний 3S2, 2P4 неона в плазме Не-Ne ОКГ. Сб. трудов Воронежского политехнического института. Генерирование и усиление колебаний, 1971, вып. 4, с. 309). В отрезке двухпроводной линии ВЧ-источник питания возбуждает стоячую волну с чередующимися вдоль отрезка пучностями и узлами напряженности электрического поля. В поперечном сечении отрезка напряженность электрического поля вблизи проводника с нулевым ВЧ-потенциалом меньше, чем у второго проводника. Таким образом, электрическое поле в устройстве-прототипе существенно неоднородно вдоль оси и в поперечном сечении газоразрядной трубки, что вызывает соответствующую неоднородность интенсивности процессов ионизации и возбуждения газовой среды, ухудшающую спектральные и энергетические характеристики лазерного излучения, т. е. снижение эффективности возбуждения рабочей среды лазера. Цель изобретения - повышение эффективности возбуждения рабочей среды газового лазера. Цель достигается тем, что в устройство возбуждения газового лазера, содержащее ВЧ-источник питания и связанный с его выходом высокочастотный резонатор, образованный отрезком симметричной двухпроводной линии, проводники которой размещены в общем экране и расположены вдоль оси газоразрядной трубки лазера, введены дополнительный ВЧ-источник питания, идентичный основному, задающий ВЧ-генератор, квадратурный делитель мощности и четыре реактивных двухполюсника. При этом выход задающего ВЧ-генератора через квадратурный делитель мощности подключен к входам основного и дополнительного ВЧ-источников питания, выходы которых включены между общим экраном и соответственно первым и вторым проводниками с одной стороны отрезка двухпроводной линии, первый и второй реактивные двухполюсники включены между общим экраном и, соответственно, первым и вторым проводниками с противоположной стороны отрезка двухпроводной линии, а третий и четвертый реактивные двухполюсники включены между общим экраном и выходами соответственно основного и дополнительного ВЧ-источников питания. Отрезок двухпроводной линии выполнен с длиной, равной нечетному числу четвертей длины волны задающего ВЧ-генератора, а сопротивления Х1, Х2, Х3, Х4 соответственно первого, второго, третьего и четвертого реактивных двухполюсников удовлетворяют следующим соотношениям: X1= -X2= jZc, X3= j














W =






u1(x)=




u2(x)=




u1(x)-u2(x)=

x cosmx










I1= j


jY1= j


IГ1= (Yг+jY1+jY3+


IГ2= (Yг+jY2+jY4+


IГ1= (ReYг



IГ2= (ReY




IГ1= (ReYг




IГ2= (ReYг




ReYг=

IГ1= (ReYг+

IГ2= (ReYг+

P =



Pmax=

Формула изобретения
X1= -X2= jZc ;
X3= j

X4= -j

где Zc; Zn - волновые сопротивления линий, образованных каждым из проводников высокочастотного резонатора и общим экраном соответственно при синфазном и противофазном возбуждении;
Re Yг; Jm Yг - соответственно активная и реактивная составляющие внутренней проводимости генератора, эквивалентного каждому из ВЧ-источников питания;
j - мнимая единица.
РИСУНКИ
Рисунок 1, Рисунок 2
Похожие патенты:
Газовый лазер с вч-возбуждением // 1644269
Изобретение относится к квантовой электронике и может быть использовано при создании технологических газовых лазеров
Газовый лазер с высокочастотным возбуждением // 1572369
Изобретение относится к квантовой электронике и может быть использовано в волноводных лазерах со складным резонатором
Газовый лазер // 702988
Изобретение относится к мощной квантовой электронике и может быть использовано при создании импульсно-периодических лазеров на самоограниченных переходах атомов металлов
Волноводный co2 лазер с вч-возбуждением // 2237956
Изобретение относится к квантовой электронике и может быть использовано при разработке и производстве волноводных СО2-лазеров, возбуждаемых высокочастотным полем и имеющих складной двухканальный резонатор
Эксимерный лазер // 2249282
Изобретение относится к лазерной технике и может быть использовано в медицине при лечении внутриполостных инфекций, в микроэлектронике, лазерной химии и в технологических процессах, требующих мощные УФ-излучения
Компактный импульсный газовый лазер и устройство магнитного сжатия импульса для его возбуждения // 2254650
Изобретение относится к области газовых лазеров и может использоваться в конструкциях импульсных газовых лазеров, возбуждаемых быстрым продольным разрядом, например, в лазерах на второй положительной системе полос молекулярного азота (азотных лазерах)
Изобретение относится к области квантовой электроники и может быть использовано при создании импульсно-периодических лазеров на парах химических элементов
Изобретение относится к способам и устройствам для возбуждения объемного самостоятельного импульсного продольного разряда в газовых средах для создания источников спонтанного или когерентного излучения
Изобретение относится к квантовой электронике и может быть использовано при конструировании линейных и кольцевых газовых лазерных приборов с ВЧ возбуждением
Изобретение относится к плазменной электронике и может быть использовано при создании СВЧ-генераторов на основе взаимодействия электронных пучков с плазмой. Устройство содержит размещенные в однородном магнитном поле коаксиально расположенные в вакуумной камере кольцевой диск с центральным отверстием и с закрепленным на нем кольцевым термокатодом, трубку-сепаратор, выполненную по размерам центрального отверстия и установленную со стороны кольцевого термокатода, причем направление однородного магнитного поля совпадает с их осью симметрии, а также катушку индуктивности, соединенную с управляемым источником питания и выполненную с возможностью изменения напряженности магнитного поля в вакуумной камере для управления размерами трубчатой плазмы, а трубка-сепаратор изготавливается из металла с высокой проводимостью и толщиной стенки, исключающими проникновение через нее импульсного магнитного поля катушки индуктивности. Технический результат - повышение управляемости устройства путем обеспечения возможности увеличивать и уменьшать поперечные размеры плазменной трубки без смены термокатода и без воздействия на сильноточный электронный пучок, распространяющийся внутри трубки-сепаратора. 1 з.п. ф-лы, 2 ил.