Фотопроводящий слой электрофотографического материала
Изобретение относится к электрофотографии и позволяет улучшить качество слоя за счет увеличения фоточувствительности. Готовят раствор N-замещенного галогенированного карбазола общей формулы. Содержание компонентов, мас. %: органический фотопроводник 20-70, полиимид 30-80, раствор наносят на подложку и высушивают. 1 табл.
Изобретение относится к электрофотографическим материалам и может быть использовано в электрофотографии. Цель изобретения - улучшение качества слоя за счет увеличения фоточувствительности. Предлагаемый фотопроводящий слой содержит органический фотопроводник-N-замещенный галогенированный карбазол общей формулы 
где R1 - алкил С1-С4, -С6Н5, -СН3С6Н5; R2 - Cl, Br; R3=H, Cl, Br; R4= H, Br, и полиимид общей формулы 
N
Ar
N
где 
Ar
- четырехвалентный остаток ароматического углеводорода следующего строения: 
(X=CO, SO2); 
;
, R
- двухвалентная кардовая группировка следующего строения: 
(Y=O,NH); 
; 
(Z= O,CO); 
CO , при следующем содержании компонентов, мас.%: Органический фотопроводник 20-70 Полиимид 30-80
П р и м е р А. Получение 1,3,6-трибром-N-метилкарбазола. К раствору 4,04 г трибромкарбазола в 70 мл ацетона добавляют раствор 1,67 г КОН в 1 мл воды. После 20-30 мин перемешивания при комнатной температуре добавляют 3,4 г диметилсульфата и перемешивают еще 1 ч. Продукт высаживают в воду и перекристаллизовывают из этанола т.пл.=163-167оС. Аналогично получают 1,3,6,8-тетрабром-N-метилкарбазол. Остальные бромированные и хлорированные N-замещенные карбазолы получают по известным методикам. П р и м е р Б. Приготовление фотопроводящего слоя. В растворителе, выбираемом в соответствии с растворимостью в нем конкретного полиимида (обычные растворители-N,N-диметилацетамид, N,N-диметилформамид, N-метилпирролидон, 1,1,2,2-тетрахлорэтан, в некоторых случаях хлороформ, метиленхлорид, тетрагидрофуран, нитробензол и другие, а также смеси этих растворителей друг с другом и с другими растворителями), готовят раствор полиимида концентрации 1-10 мас.% и приливают к определенному объему этого раствора также определенный объем раствора органического фотопроводника в этом же растворителе. Фотопроводник может быть также внесен в сухом виде в раствор полиимида и растворен при перемешивании и при необходимости при нагревании. Полученный раствор разбавляют до суммарной концентрации 1-2 мас.% и выливают на подложку с электропроводящим слоем в соответствии с таким расчетом, чтобы получить после удаления растворителя слой необходимой толщины (обычно 2-4 мкм). В зависимости от температуры кипения растворителя его удаляют испарением при комнатной температуре или при нагревании. Полученный таким способом слой пригоден для испытания электрофотографических и других фотоэлектрических свойств. Для полива на гибкую подложку с нанесенным на нее электропроводящим слоем используют растворы более высокой суммарной концентрации (5-40 мас.%), определяемой технологией полива. При измерениях электрофотографических свойств фотопроводящего слоя начальный потенциал соответствует напряженности поля 5
107 В/м. Спектральная фоточувствительность определяется по полуспаду потенциала (S0,5
) (график приводится на чертеже). П р и м е р ы 1-28. По примеру Б готовят и испытывают слои, содержащие:
фотопроводник-3-бром-N-метилкарба-зол (БМК) формулы
и полиимид ПИР-1 из 9,9-бис-(4-аминофенил)флуорена и диангидрида бензофенол-3,3',4,4'-тетракарбоновой кислоты формулы 
N
N
, фотопроводник-3,6-дибром-N-метилкарбазол (ДБМК) формулы 
и полиимид ПИР-1; фотопроводник-1,3,6-трибром-N-метилкар- базол (ТБМК) формулы 
и полиимид ПИР-1; фотопроводник-1,3,6,8-тетрабром-N-метил- карбазол (ТеБМК) формулы 
и полиимид ПИР-1; фотопроводник БМК и полиимид 20П из 3,3-бис-(4-аминофенил)фталида и диангидрида пиромеллитовой кислоты, формулы
; фотопроводник ДБМК и полиимид 20П; фотопроводник ТБМК и полиимид 20П; фотопроводник ТеБМК и полиимид 20П; фотопроводник ДБМК и полиимид П-1 из диангидрида бензофенон-3,3', 4,4'-тетракарбоновой кислоты и 3,3-бис-(4-аминофенил)фталимидина формулы
; фотопроводник ДБМК и полиимид П-2 из диангидрида бензофенон-3,3',4,4'-тетракарбоновой кислоты и 9,9-бис-(4-аминофенил)антрона формулы
; фотопроводник ДБМК и полиимид П-3 из диангидрида бензофенон-3,3',4,4'-тетракарбоновой кислоты и 9,9-бис-(4-аминофенил)ксантена формулы
; фотопроводник ДБМК и полиимид П-4 из диангидрида бензофенон-3,3',4,4'-тетракарбоновой кислоты и 1,1-бис-(4-аминофенил)циклогексана формулы
; фотопроводник ДБМК и полиимид П-5 из диангидрида бензофенон-3,3'4,4'-тетрабромкарбоновой кислоты и 3,3-бис-(4-аминофенил)-1-фенил-2-оксиндола формулы
; фотопроводник 3,6-дибром-N-фенилкарбазол (ДБФК) формулы 
и полиимид 10С из 9,9 бис-(4-аминофенил)флуорена и диангидрида дифенилсульфон-3,3',4,4'-тетракарбоновой кислоты формулы
; фотопроводник-1,3,6,8-тетрабром-N-бен- зилкарбазол (ТеББК) формулы 
и полиимид 10С; фотопроводник БМК и полиимид 20Н из 3,3-бис-(4-аминофенил)фталида и диангидрида 1,4,5,8-нафталинтетракарбоновой кислоты формулы
; фотопроводник-3,6-дихлор-N-этилкарбазол (ДХЭК) формулы 
и полиимид 20П; известный фотопроводник-N-метилкарбазол (МК) формулы 
и полиимид 20ЦС из диангидрида дибензотиофендиоксидтетракарбоновой кислоты и анилинфталеина формулы
; фотопроводник МК и полиимид ПИР-1; фотопроводник МК и полиимид 10С.
Формула изобретения
где > Ar < - четырехвалентный остаток ароматического углеводорода следующего строения:
- двухвалентная кардовая группировка следующего строения:
; 
отличающийся тем, что, с целью улучшения качества слоя за счет увеличения фоточувствительности, он содержит в качестве фотопроводника N-замещенный галогенированный карбазол общей формулы
где R1 - алкил C1 - C4, -C6H5, -CH2C6H5;
R2 = Cl, Br;
R3 = H, Cl, Br;
R4 и R5 = H, Br,
при следующем содержании компонентов, мас.%:
Органический фотопроводник - 20 - 70
Полиимид - 30 - 80
РИСУНКИ
Рисунок 1, Рисунок 2, Рисунок 3
