Композиция адгезионного подслоя для диазотипного материала
Композиция адгезионного подслоя диазотипного материала, включающая два полимера, один из которых сополимер винилиденхлорида с акрилонитрилом, и органические растворители - этилцеллозольв или метилцеллозольв и ацетон, отличающаяся тем, что, с целью увеличения сохранности композиции, она содержит сополимер винилиденхлорида с акрилонитрилом с соотношением звеньев 4 : 1, а в качестве второго полимера - полиметилметакрилат при следующем соотношении компонентов, мас.%: Сополимер винилиденхлорида с акрилонитрилом (соотношение мономеров 4 : 1) - 0,25 - 0,40 Полиметилметакрилат - 0,40 - 0,55 Этилцеллозольв или метилцеллозольв - 5,50 - 6,00 Ацетон - Остальное
Похожие патенты:
Основа для кинофотоматериалов // 1364053
Основа для кинофотоматериалов // 1181422
Основа для кинофотоматериалов // 1115602
Основа для кинофотоматериалов // 1102372
Основа для кинофотоматериалов // 1101028
Копировальный материал // 1423430
Изобретение относится к области производства диазотипных копировальных материалов и позволяет улучшить качество материала для повьшения оптической плотности изображения
Позитивный фоторезист // 1364051
Изобретение относится к позитивным фоторезистам на основе о-нафтохинондиазидов, применяемых в процессах производства радиоэлектронных и микроэлектронных изделий и сверхбольших схем методами контактной и проекционной фотопечати
Позитивный фоторезист // 1217128
Изобретение относится к способам получения бессеребряного фотографического изображения и может быть использовано в электронике
Способ получения изображений // 1135324
Композиция адгезионного подслоя пленочного материала для лазерных гравировальных автоматов // 2293754
Изобретение относится к химико-фотографическим материалам, используемым для получения фотоформ - фотошаблонов с помощью лазерных гравировальных автоматов