Способ высокотемпературного количественного рентгенофазового анализа

 

Изобретение относится к области рентгенографического контроля материалов ,а именно К; рентгенофазовому анализу высокодисперсных каталитических систем при высоких температурах. Цель изобретения состоит в упрощении способа и повышении точности определения доли кристаллической фазы в аморфной и доли фазовых модификаций компонентов в динамических условиях температуры в процессе фазовых превращений. При осуществлении изобретения образец подвергают рентгенографированию при температурах протекания фазовых превращений. Для этого его помещают в высокотемпературную приставку и нагревают в вакууме или реакционной среде до заданной температуры анализа, производят рентгеи.ографирование, регистрируя выбранную дифракционную линию анализируемой фазы и измеряя ее интегральную интенсивность . Затем образец нагревают до температуры полной окристаллизации анализируемой фазы, измеря-. ют соответствующее максимальное значение интенсивности 1|Цяис той же дифракционной линии фазы и находят ее количество при температуре анализа , зная исходное количество превращающейся фазы т из соотнощеМ01С .2 -табл. i (Л С ния та„1„ц moIe,H/I,

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (50 4 С 01 N 23/20

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

Н АBTOPCHOMV СВИДЕТЕЛЬСТВУ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

IlO ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (21) 4056580/24-25 (22) 11. 12. 85 (46) 15.07.87. Бюл. В 26 (72) Л.N. Родин и Т.М. Водолаэская (53) 621.386(088.8) (56) Рентгенография катализаторов.

Сборник. Новосибирск, СО АН СССР, 1977 с. 5, 111.

Зевин Л.С., Завьялова Л.Л. Количественный рентгенографический анализ. M. Недра, 1974, с. 29-32.

Ковба Л.M. и др. Рентгенофаэовый анализ. М.: Изд-во МГУ, 1969, с. 115-116. (54) СПОСОБ ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНОГО КОЛИЧЕСТВЕННОГО РЕНТГЕНОФАЗОВОГО

АНАЛИЗА (57) Изобретение относится к области рентгенографического контроля материалов,а именно к рентгенофазовому анализу высокодисперсных каталитических систем при высоких. температурах.

Цель изобретения состоит в упрощении способа и повышении точности опреде„„SU„„1323932 A 1 ления доли кристаллической фазы в аморфной и доли фазовых модификаций компонентов в динамических условиях температуры в процессе фазовых превращений. При осуществлении изобретения образец подвергают рентгенографированию при температурах протекания фазовых превращений. Для этого его помещают в высокотемпературную приставку и нагревают в вакууме или реакционной среде до заданной температуры анализа, производят рентгенографирование, регистрируя выбранную дифракционную линию анализируемой фазы и измеряя ее интегральную интенсивность I „. Затем образец нагревают до температуры полной окристаллизации анализируемой фазы, измеря-. ют соответствующее максимальное значение интенсивности I той же дифракционной линии фазы и находят ее количество при температуре анализа ша„, зная исходное количество превращающейся фазы m из соотношения шан 1 as = п1 oIa / Т. маке,2 табл

13239

Изобретение относится к рентгенографическому контролю материалов, а именно к рентгенофазовому анализу высокодисперсных каталитических систем при высоких температурах. 5

Цель изобретения — упрощение способа и повышение точности определения доли кристаллической фазы в аморфной и доли фазовых модификаций компонентов в динамических условиях 10 температуры в процессе фазовых ггревращений.

Способ осуществляют следующим образом.

Образец помещают в приставку для 15 высокотемпературного рентгенографического исследования, нагревают до требуемой температуры T,„ в вакууме или в среде и, облучая пучком рентгеновских лучей, производят регистра-20 цию выбранной системы дифракционных линий анализируемых фаз. При этом определяют интегральную интенсивность

I „ наиболее информативных линий. Затем исследуемый образец нагревают до температуры полной окристаллизации анализируемой фазы, о чем свидетельствует постоянство интегральной интенсивности I„ „ выбранной дифракционной линии этой фазы, которая имеет наибольшее значение. Весовую долю m анализируемой фазы при вы бранной температуре Т „ находят из соотношения т „„= тп „ Iaw /I,„,, где

m, — исходное количество превращаю- 35 щейся фазы.

Следовательно, контролируемый образец будучи нагретым до температуры полной окристал,пизации становится стандартным образцом фазового 40 анализа.

Пример 1. Оггредеггение количества оксида цинка в двойной оксидной медь-цинковой системе в процессе ее термообработки в окислительной среде.

Исследуемый образец был приготовлен осаждением из водных растворов азотно-кислых солей медь-цинковой системы при рН 7 и 70 С. Полученный 50 твердый раствор (?и, Cu) (ОН) (С",), предварительно прока. пивали при 300"С и получили оксидную медь-цинковую систему (основа катализатора синтеза метанола), которую испольэовали в 55 качестве исследуемого образца.

200 мг исследуемого порошкообразного образца с элементарным состаТаблица 1.

Номер опыта

ТемпеТан ц кс

Количестратура обработки (c) 0С во кристаллической фазы оксида цинка (m Ä ), мг

300

330

0,80

80,8

86,6

500

0,86

0,88

88 5

600

700

1,00

100,0

32 2 вом (Cu Zn) в пересчете на СцО и

Zn0, равным 1: 1, помепгают в кювету высокотемпературной камеры-приставки

ГПВТ вЂ” 1500 к рентгеновскому дифрактометру ДРОН-2,0, заполненной воздухом. Образец чагревают до температуры появления на рентгенограмме дифракционных максимумов оксида цинка (330 С) и при этой температуре определяют интенсивность I линии (010) ZnO в анализируемом образце.

Продолжая нагрев, определяют при 500, 600,, 700 и 800 С по тому же дифракционному максимуму, устанаво ливая, что при 700 С интенсивность дифракционного максимума достигает максимального значения (I«„, ). Затем вычисляют величину отношения

Х„„/Х „,„, для температур анализа

500, 600 и 700 С и по формуле гп „/гп = I +/I a„, находят фактическое содержание оксида цинка в двойной оксидной медь-цинковой системе в процессе ее термообработки в окислительной среде.

Результаты опытов рентгенофазового определения количества оксида цинка в двойной оксидной медь-цинковой системе в процессе ее термообработки в окислительной среде при

mr = 100 мг для ZnO представлены в табл. 1.

32 4

Формула изобретения ния

I шан = mo Тын /Т макс где т „— весовая доля окристаллизовавшейся фазы при температуре анализа; исходное количество превращающейся фазы, m о

ТемпеНомер опыта.

f ан1 мыкс с н / макс интенсивности дифракционных максимумов соответственно при температуре .анализа и температуре полной окристаллизации фазы. ратура обработки аС

0,509

0,267

740

50,9 45

26,7

Составитель E.Ñèäîõèí

Техред А.Кравчук

Редактор А.Лежнина

Корректор С.Черни

Заказ 2957/47

Тираж 776

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Подписное

Производственно-полиграфическое предприятие, г. Ужгород, ул. Проектная, 4

3 13239

П ф и м е р 2. Определение количества оксида меди при модификационном переходе Си0 Си, О в образце

Cu0:Zn0 = 1: 1 при 680 и 740 С при нагревании в атмосфере азота. 5

Опыты проводят в тех же условиях, что в первом примере, только в камере-приставке вмеСто воздуха осуществляют проток азота.

Вначале образец нагревают от ком- 10 натной температуры до температуры появления дифракционных максимумов

Си О, периодически проводя съемку рентгеновской дифракционной картины.

Рентгеновская съемка при комнатной температуре и затем при температурах до 600 С указывает на отсутствие дифракционного максимума Си О и на наличие максимумов СиО. Дифракционные максимумы Си О появляются при 20

650 С, при этом начинают уменьшаться. максимумы СиО, что свидетельствует о начале фазового перехода СиО в Сф .

В этих условиях определяют интенсивность линии (111) Си Π— Т „ . Про- 25 должая нагрев, определяют интенсивность линии (111) Си Π— I „ при

680 и 740 С. Затем вычисляют величину отношения 1ан/I„„, и находят фактическое содержание СиО в образ- 30 це при 680 и 740 С аналогично описанному.

Результаты опытов рентгеновского определения количества оксида меди 35 при модификационном переходе СиО-+Си О представлены в табл. 2.

Таблица 2

Способ высокотемпературного количественного рентгенофаэового анализа, включающий определение количественного фазового состава исследуемого образца по соотношению интегральных интенсивностей дифракционных максимумов фаэ исследуемого и стандартного с известным количеством анализируемой фазы образцов, о т л ич а ю шийся тем, что, с целью упрощения способа и повышения точности определения доли кристаллической фазы в аморфной и доли фазовых модификаций компонентов в динамических условиях температуры в процессе фазовых превращений, в качестве стандартного используют исследуемый образец, который нагревают до температуры полйой окристаллиэации анализируемой фазы и определяют максимальное значение интегральной интенсивности дифракционного максимума анализируемой фазы, при этом количество анализируемой фазы при температуре анализа находят из соотноше

Способ высокотемпературного количественного рентгенофазового анализа Способ высокотемпературного количественного рентгенофазового анализа Способ высокотемпературного количественного рентгенофазового анализа 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области изучения структуры металлических, оксидных и солевых расплавов с помощью сфокусированного пучка электронов и может быть использовано для исследования структуры их приповерхностных слоев

Изобретение относится к области физико-химического анализа материалов , а точнее к способам контроля свойств поверхностей

Изобретение относится к экспериментальной и технической физике и может быть использовано при исследованиях структуры тверда1Х тел в материаловедении и технологии обработки материалов

Изобретение относится к определению реальной структуры монокристаллов и физическо14у материаловедению и может быть использовано для определения количественных характеристик никродефектов в объеме монокристалла

Изобретение относится к области определения реальной структуры монокристаллов и фиэическо м/ материаловедению и может быть использовано для определения количественных характеристик микродефектов в объеме, исследуемого мо ноКристалла , а именно их if.

Изобретение относится к физическому материаловедению, а конкретно к способам рентгенографического контроля металлов и сплавов, и может быть использовано для определения размера зерен кристаллитов в твердом теле

Изобретение относится к рентгеноструктурному анализу тонких поверхностных слоев поликристаллов и позволяет получать количественную информацию о состоянии поверхностного слоя поликристаллического образца дифференциально по конкретным слоям

Изобретение относится к рентгеновскому приборостроению

Изобретение относится к области рентгеновской аппаратуры для дифрактометрического исследования текстуры

Изобретение относится к области медицины, а именно к гемостазиологическим аспектам акушерства и гинекологии, и может быть использовано врачами других специальностей

Изобретение относится к области ядерной энергетики для космических аппаратов и, в частности, к теневым радиационным защитам (РЗ), выполненным из гидрида лития, и касается технологии изготовления в части проведения контроля их геометрии, определяющей контур теневой защищаемой зоны, создаваемой защитой на космическом аппарате

Изобретение относится к технике рентгеноструктурного анализа и касается методов настройки и юстировки гониометрических устройств рентгеновских дифрактометров типа "ДРОН"

Изобретение относится к технологии анализа биологических материалов, а именно к способам определения фракционного состава (ФС) липопротеинов (ЛП) в плазме крови методом малоуглового рентгеновского рассеяния (МУРР) для последующей диагностики состояния организма человека

Изобретение относится к устройствам для рентгеновской типографии и может быть использовано для определения структуры сложного неоднородного объекта и идентификации веществ, его составляющих

Изобретение относится к контрольно-измерительной технике и предназначено для оценки качества деталей при их изготовлении и ремонте, а конкретно - дефектоскопии с использованием радиоактивных источников ионизирующего излучения и коллимированных блоков детекторов
Наверх