Полупроводниковый прибор
Изобретение относится к функциональной микроэлектронике, микрофотоэлектронике, вычислительной технике. Целью изобретения является расширение функциональных возможностей полупроводникового прибора за счет обеспечения управляемого переключения прибора из низкоомного в одно из более высокоомных состояний при пропускании через прибор тока выше порогового значения, обеспечения возможности записи и сохранения информации о величине и полярности напряжения, прилагаемого к прибору при записи, обеспечения непрерывной регистрации поглощенного прибором излучения. Полупроводниковый прибор содержит полуизолирующую подложку на основе соединения A3B3 легированного компенсирующей примесью с глубоким уровнем с концентрацией в интервале 51015-5
1016см3. На подложке расположена полупроводниковая пленка из соединения A3B3 с двумя омическими контактами. Величина произведения толщины пленки на концентрацию электронов в ней находится в интервале 5
1010-1012см-2. 2 з.п. ф-лы, 2 ил.
Изобретение относится к функциональной микроэлектронике, микрофотоэлектронике, вычислительной технике и может быть использовано в полупроводниковых монолитных интегральных схемах, запоминающих и логических устройствах, фотоприемных устройствах. Целью изобретения является расширение функциональных возможностей полупроводникового прибора за счет обеспечения управляемого переключения прибора из низкоомного в одно из более высокоомных состояний при пропускании через прибор тока выше порогового значения, обеспечения возможности записи и сохранения информации о величине и полярности напряжения, прилагаемого к прибору при записи, обеспечения непрерывной регистрации поглощенного прибором излучения, осуществления записи высокоомного состояния только при приложении к прибору напряжения одной полярности и его стирания при приложении к прибору напряжения противоположной полярности, обеспечения расширения диапазона волн излучения, регистрируемого прибором, при сохранении неизменным времени теплового стирания высокоомного состояния. На фиг. 1 изображен полупроводниковый прибор; на фиг. 2 полупроводниковая пленка, сужающаяся от одного контакта к другому. Предлагаемый полупроводниковый прибор содержит омические контакты 1 и 2, полупроводниковую пленку 3, полуизолирующую подложку 4. В полупроводниковом приборе подложка 4 выполнена из полуизолирующего арсенида галлия, компенсированного глубокой примесью (хромом) с концентрацией 1016 см-3, полупроводниковая пленка 3 из арсенида галлия получена методом эпитаксиального наращивания на полуизолирующую подложку и имеет толщину 7 мкм и концентрацию электронов 7. Толщина переходного слоя в пленке 1,2 мкм, произведение концентрации на толщину пленки 61011 см-2. Длина l1 суженного участка пленки 50 мкм, ширина 20 мкм. Для расширения диапазона длин волн излучения в полупроводниковом приборе подложкой 4 из полуизолирующего арсенида галлия, компенсированного глубокой примесью с концентрацией 1016 см-3, полупроводниковая пленка выполняется из n= Ga As Sb толщиной 11 мкм с концентрацией электронов 7
1014 см-3. Произведение концентрации на толщину пленки равно 8
1011 см-2. Ширина запрещенной зоны материала пленки у поверхности равна 1,2 эВ, а у границы раздела пленка подложка 1,5 эВ.
Формула изобретения
1. ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЙ ПРИБОР на основе соединений А3В5, представляющий собой полупроводниковую пленку с двумя омическими контактами, выполненную на полуизолирующей подложке, отличающийся тем, что, с целью расширения функциональных возможностей за счет обеспечения управляемого переключения прибора из низкоомного в одно из более высокоомных состояний, обеспечения возможности записи и сохранения информации о величине и полярности напряжения, прилагаемого к прибору при записи, обеспечения непрерывной регистрации поглощенного прибором излучения, полуизолирующая подложка выполнена из материала, легированного компенсирующей примесью с глубоким уровнем с концентрацией в интервале 5


РИСУНКИ
Рисунок 1, Рисунок 2