Способ изготовления жидкокристаллических индикаторов

Способ изготовления жидкокристаллических индикаторов, включающий формирование на одной подложке прозрачных токопроводящих электродов, а на другой прозрачных сплошных областей токопроводящих электродов, разделение подложек на сегментные и общие пластины, нанесение на каждую пластину ориентирующего слоя, соединение пластин, заполнение полости между ними жидким кристаллом, отличающийся тем, что, с целью повышения выхода годных индикаторов и улучшения качества изображения, прозрачные токопроводящие сегментированные электроды формируют катодно-реактивным напылением пленки In ₂O₃SnO₂, толщиной 0,1-0,12 мкм, в кислородно-аргонной плазме с последующей ее фотогравировкой, а прозрачные сплошные области токопроводящих электродов формируют катодным напылением через маску пленки InSn, толщиной 0,02-0,03 мкм, с размером зерна не более 100 нм с последующим окислением ее в среде кислорода.