Способ изготовления нейтральных светофильтров
Изобретение относится к области фотогра ческой сенситометрии и позволяет снизить разброс значений диффузных оптических плотностей в области длин волн 420-650 нм. При изготовлении нейтрального светофильтра в полимеризационноспособный пленкообразующий материал с вязкостью 400-2000 сП вводят спиртовую суспентзию коллоидного графита. Введение в суспензию 0,2-6 мас.% графита от массы исходного материала обеспечивает пропускание светофильтром требуемого спектра видимого диапазона. Посредством вакуумирования удаляют спирт и добавляют инициатор полимеризации . Полученную смесь размещают между двумя плоскими полированными стеклянными пластинами и проводят фотополимеризацию при комнатной тем (Л пературе при определенной освещенности . После термополяризации образца стеклянные пластины удаляются.I табл.
СОЮЗ СОВЕТСКИХ
СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ
РЕСПУБЛИК
ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ
К А ВТОРСКОМ,Ф С8ИДЕТЕЛЬСТВУ
ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР
ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (21) 3871070/24-10 (22) 22.03.85 (46) 07.11.86. Бюл. У 41 (72) П.П.Втулкин, С.И.Киреева, И.В.Колбанев, Г,Н.Павлыгин, Ю.M.Си вергин и В.А.Шинкина (53) 667.783 (088.8) (56) Гороховский IO.Н. и Левенберг Т.М. Общая сенситометрия, M:
Искусство, 1970, с.352.
Технология стекла. М.: Государственное издательство литературы по строительству, архитектуре и строительным материалам, 1961, с.327-328. (54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ НЕЙТРАЛЪНЫХ
СВЕ ТОФИЛЬТРОВ (57) Изобретение относится к области фотографической сенситометрии и позволяет снизить разброс значений,.SUÄÄ 1269066 А1 (5D 4 G 02 В 5 22 диффузных оптических плотностеи в области длин волн 420-650 нм. При изготовлении нейтрального светофильтра в полимеризационноспособный пленкообразующий материал с вязкостью
400-2000 сП вводят спиртовую суспен.— зию коллоидного графита. Введение в суспензию 0,2-6 мас.i графита от массы исходного материала обеспечивает пропускание светофильтром требуемого спектра видимого диапазона. Посредством вакуумирования удаляют спирт и добавляют инициатор полимеризации. Полученную смесь размещают между двумя плоскими полированными стеклянными пластинами и Проводят фотополимеризацию при комнатной температуре при определенной освещенности. После термополяризации образца стеклянные пластины удаляются.1 табл. — 550 нм — 630 нм = 650
420 нм )= 525 нм Фильтр 3= 437 нм
"видности"
Нейтральный нм св ето.фильтр . по примеру
0,2
0,2
0,2
0,2
0,2
0,2
0,2
2,64
2,61
2,60
2,61
2,65
2,61
2,61
5,54
5,61
5,64
5 51
5,50
5,61
5,51
1,58
1,49
l,62
1,53
1,53
1,49
НС-9
НС-10
2,79
2,65
2,71
2,70
2,67
2,88
5,37
4,66
5,08
5,02
4,92
5,60
НС-11
1 .12
Изобретение относится к области фотографической сенситометрии„ точнее к изготовлению нейтральных образцов оптической плотности (нейтральных светофильтров), предназначенных для проверки образцовых денситометрических установок, работающих в проходящем свете в диапазоне плотностей
0,01-6,00 Б.
Цель изобретения — снижение разброса значений диффузных оптических
° м „ плотностей в области длин волн 420—
650 нм.
Пример 1. В олигомер МДФ-2 (6ис — метакрилоилоксидиоксиэтиленфта- лоилоксиэтилен) окси) вязкостью 800 сП вводят спиртовую суспензию коллоидного графита, при этом содержание графита составляет 2 мас.%. от массы
МДФ-2, затем вакуумированием удаляют спирт и добавляют инициатор полимеризации — 0,5 мас.% перекиси бенэоила. После этого полученную смесь наносят на плоскую полированную стек.лянную пластину, сверху накладывают вторую стеклянную пластину таким образом, чтобы между ними был зазор, равный толРазброс значений зональных диффузных плотностей в видимом диапазоне спектра для светофильтров, полученных предлагаемым способом, не превышает 2%, в то время как для полученных известным способом он составляет 18%.
69066 2 щине образца. Проводят фотополимери: зацию при комнатной температуре при освещенности 40000 лк в течение 3 ч и затем окончательную полимеризацию при 80 С в течение 4 ч. После разъема стеклянных пластин получают нейтральный светофильтр толщиной 0,3 мм.
Пример 2,. В олигомер MTC-1 (метакрил †(Bgc -триэтиленгликоль) -се1Î бацинат1 вязкостью 400 сП вводят спиртовую суспензию коллоидного графита, при этом содержание графита составляет 0,2 мас,% от массы MTC-1.
Все операции проводят так же и при
15 тех же режимах, что и в примере 1.
Пример 3, В олигомер МДФ-3 (трис-1-(метакрилоилоксидиоксиэтиленфталоилоксиэтилен)-Окси) вязкостью
2000 сП вводят спиртовую суспензию
2п коллоидного графита, при этом содержание графита составляет б мас.% от массы МДФ-З, Проводят те же операции и при тех же режимах, что и в примере 1.
25 В таблице приведены значения зональных диффузных плотностей полученных образцов и нейтральных стеклянных светофильтров, изготовленных известным и предлагаемым способами.
Если содержание коллоидного графита меньше чем 0,2% или больше 6% от массы исходного материала, то получаемые образцы использовать в фотографической сенситометрии не представляется возможным, так как в первом случае они пропускают все излуСоставитель В.Кондратьев
Техред Л. Олейник
Корректор Е.Сирохман
Редактор Н.Егорова
Заказ 6031/48
Тираж 501
ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий
113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д.4/5
Подписное
Производственно-полиграфическое предприятие, r.Óæãîðîä, ул.Проектная, 4
3 126906 чение видимого диапазона, а во втором — практически полностью поглощают его.
Если вязкость исходного материа-ла меньше 400 сП, то в силу реакцион- > носпособности частиц коллоидного графита в недостаточно вязкой среде они слипаются в конгломераты и получить требуемую равномерность оптической плотности по полю невозможно. При вязкости исходного материала больше
2000 сП нарушается равномерное распределение коллоидного графита в объеме вещества, что также приводит к нарушению равномерности оптической плотности по полю.
Формула изобретения
Способ изготовления нейтральных светофильтров, включающий введение
6 4 в материал светопоглоцающего вещества, отличающийся тем, что, с целью снижения разброса значений диффузных оптических плотностей в области длин волн 420-650 нм, в полимеризационноспособный пленкообразующий материал с вязкостью 400—
2000 сП вводят спиртовую суспензию коллоидного графита при содержании последнего 0,2-6 % от массы пленкообразующего материала, спирт удаляют вакуумированием, добавляют инициа-. тор полимеризации, полученную смесь размещают между двумя плоскими полированными стеклянными пластинами,проводят последовательно фото- и термополимеризацию, после чего пластиЖ удаляют.