Фотополимеризующийся состав для получения покрытий

 

ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩИЙСЯ СОСТАВ ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ ПОКРЫТИЙ, включающий фотоинициатор и пленкообразующий компонент с ненасьщенными этиленовыми связями, отличающийся тем, что, с целью ускорения процесса отверждения и повышения стойкости к царапанию полученного покрытия, в качестве фотоинициатора он содержит 2-бензош1-2-фенил-4,7-дигидро-1,3-диоксепин формулы при следующем соотношении компонентов , мае.ч.: Ф Пленкообразующий 100 компонент Фотоинициатор указанной формулы 1,0-5

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСНИХ

РЕСПУБЛИК (19) (И) (594 G 03 С 1 6

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К IlATEHTY

< o

Пленкообразующий компонент

Фотоинициатор указанной формулы

100

1, 0-5 (21) 3612602/23 04 (22) 29.06,83 (31 ) P 32266170 (32 ) 16.07.82 (33) DE (46) 23.12.85. Бюл. У 47 (71) Циба,-Гейги АГ (СН) (72) Ханс-Дитер Шарф, Герберт Фрауэнрат, Ханс-Георг Гейне, Ханс Рудольф, Карл-Фридрих Нойгаус и Отто Бендсцус (ве) (53) 773.9(088.8) (56) Патент ФРГ 1(2232365, кл. С 08 F 2/50, опублик. 09.06.82. (54)(5 7 ) ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩИЙСЯ СОСТАВ

ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ ПОКРЫТИЙ, включающий фотоинициатор и пленкообразующий компонент с ненасыщенными этиленовыми связями, отличающийся тем, что, с целью ускорения процесса отверждения и повышения стойкости

Ь к царапанию полученного покрытия, в качестве фотоинициатора он содержит

2-бензоил-2-фенил-4,7-дигидро-1,3-диоксепин формулы при следующем соотношении компонентов, мас.ч.:

12008

Таблица 1

Твердость по маятниковому прибору, с

Фото10 инициа тор аксимальоличес ая скоо, ч.н

00 ч. ость, /мин

ФИ 1

1,0

98

1,5

2,0

90

ФИ 2

0,5 (сравнение) 1,0

78

1,5 10

2,0 10

87

133

ФИ 1

141

3,5

Изобретение относится к получению фотополимеризующегося состава, используемого для получения покрытий.

Целью изобретения является ускорение процесса отверждения и повышения стойкости к царапанию полученного покрытия.

Пример 1, о1. Получение пленкообразующего компонента.

Из 2157 r ангидрида:малеиновой кислоты, 451 г пропиленгликоля, 1441 r диэтиленгликоля, 941,3 r простого диаллилового" эфира триметилолпропана и 428,3 г простого монобутилового эфира диэтиленгликоля путем кон- 15 денсации в расплаве получают сложный полиэфир с кислотным числом I 5-20.Получаемый сложный полиэфир разбавляют стиролом до 70 мас.7-ного раствора.

3), Фотополимеризующийся состав. 20

Отверждаемый под взаимодействием лучей лак, состоящий из 100 мас.ч, указанного связующего и 2,5 мас.ч. фотоинициатора (ФИ), наносят в виде пленки толщиной 50 мкм или 250 мкм 25 на стеклянную плиту и сразу отверждают ультрафиолетовыми лучами при скорости транспортера = 5 м/мин, Пример 2, Светоотверждаемый лак, состоящий из 73 мас.ч, ароматического уретанакрилата (Uvitane

783, Thiokol Corp, США), 17 мас,ч, М-винилпирролидона и 10 мас.ч. бутандиол-1,4-диакрилата смешивают с указанными в табл,1 количествами

35 фотоинициатора и наносят на стеклянную плиту, Толщина слоя лаковой пленки после отверждения составляет около

40 мкм.

Применяют следующие фотоиницнаторы

Предлагаемый ФИ 1: 2-бензоил-2-фенил-4,7-дигидро-1,3-диоксепин, Известный ФИ 2: 2-бенэоил-2-фе45 нил-1, З-диоксолан.

Облучение осуществляют в соответствующем приборе (РРС), снабженном лампой мощностью 80 Вт/см. При этом проба с различными скоростями проходит под лампой. Самая высокая ско50 рость, при которой достигают еще достаточного отверждения пленки за один прогон до прочности на стирание> соответствует максимальная скорость и является критерием реактивности

55 фотоотвердителя.

Твердость лаков, отвержденных при максимальной скорости, определяют

60 2 по маятниковому прибору по Кенигу (ДИН 53157), причем укаэанная твердость является критерием отверждения пленки. Результаты приведены в табл.1.

Пример 3. Светоотверждаемый лак, состоящий иэ 50 ч. ароматического уретанакрилата (Ebecryl 204 фирма ИСВ, Бельгия), 20 ч ароматического эпоксиакрилата на основе бисфенола А (ХД 4047, Ciba Geigy AG), 19 ч бутандиол-l,4-диакрилата и ll ч

N-винилпирролидона смешивают с указанным в табл.2 фотоинициатором, наносят на стеклянные плиты, как описано в примере 2, и отверждают в приборе для облучения (РРС) . Толщина слоя отвержденной пленки лака составляет около 40 мкм. Твердость по маятниковому прибору отвержденных таким образом лаков измеряют по ДИН

53157.

Т а блица 2

1200860

Продолжение табл.2

Таблица 3

Количест во проходов . оличе о,ч.

00 ч. ака

133 5

126

ФИ 2

129

3,5

1О

129

ФИ 1

104

100

ФИ 2

Составитель Н,Карпова

Техред А.Бабинец Корректор В.Синицкая

Редактор В.Иванова Заказ 7882/63 Тираж 447 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР пл делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Филиал ППП "Патент", r.yæãîðîä, ул.Проектная,4

Пример 4. Светоотверждаемый лак, состоящий из 60 мас.ч. нена- . сыщенной полиэфирной смолы (Cryctic

PKE фирма Маедег, Швейцария) и

40 мас.ч. стирола, смешивают с указанными в табл.3 количествами фото.инициатора и наносят в виде пленки толщиной около 100 мкм на стеклянные плиты, Пробы облучаются s приборе (PPC) со скоростью прохождения . проб 20 м7мин, Пробу пропускают через прибор для облучения столько раз, пока поверхность лака не станет проч- 2Б ной на стирание. Требуемое нрй этом количество проходов является критерием активности инициатора. Количество проходов и твердость отвержденных таким образом лаков по маятниковому прибору приведены в табл.3.

Таким образом, предлагаемый фотополимеризующийся состав исполь зуемый для получения покрытий, позволяет ускорить процесс отверждения и повысить стойкость к царананию полученного покрытия.