Фототермопластический материал

 

ФОТОТЕРМОПЛАСТИЧЁСКИЙ МАТЕРИАЛ , состоящий из электроизолирующей подложки и последовательно нанесенных «а нее электропроводящего покЕ :1ТИя, инже цирниого слоя толщиной 0,1-0,2 мкм из стеклообразного трехкомпонентного сплава, сЬдержащего селен-и теллур, и фототермопластическрго слоя, о т ли ч а ю щ и и с я тем, что, с целью повышения чувствительности материала к длинноволновойч области спектра при сохранении его термостабильности и прозрачности, инжекционный слой в качестве трехксмпонентного сплава cpeepjiatT сплав селена с тел9 луром и (фосфором при следукздем соотношении компоиентов, аФ.%« Селен89, Теллур i 5,0-10|fO ; Фосфор ;0,1-0,3

ае а) СОЮЗ СОВЕТСНИХ

СОИ43

Е%СПУБЛий . l

360 G03 G. 5/022; а 03 G 5/08

G 03 G 5/085, G 03 С 1/72 С 03 С 3 26

ПО ДЕЛАМ HSOSPETEHHA И ОТНЯТИЙ

ОПИСАНИЕ И306РЕТЕНИЙ„:;

Н ILBTOPCRONIV C TSV (:56) 1.. Зеленина Л.И. к др. Неорга- . нические фотопроводящие материалы. для носителей фототермопластической ;- записи. Обзорная информация, НИИТЭХИИ, И., 1980.

2. Авторское свидетельство СССР

В 896591 кл. G 03 0 5/08 1980 (прототип).

/ ношении компонентов, ат.Ф

Селен,.: . 89,7-94,9

Теллур .: :,5,0-10!0

Фосфор 0,1-0,3 21) 3322555/28-12 (22) 20.07.81 (46) 07.09.83. Бюл. 9, 33 (72) Л.И. Зеленина; А.П. Володина, А,А, Постников, Г.Й. Орлова и E,Þ. Туркина (71) Всесоюзный государственный ордена. Трудового Красного Знамени научно-исследовательский институт химико-фотографической промиаленности (53) 771.26(088.8) (54 ) (57 ) ФОТОТЕРИООЛАСТИЧЕСКИИ ИАТЕРИАЛ, состояций. as электроизоли-. рующей подл<икки и последовательно нанесенных на нее злектропроводяце-. го покрытия, инжекционного слоя толщиной 0,1-0,2 мкм нз стеклообразного трехкомтонентного сплава, содержацего селен и теллур, и фототер-. мопластического слоя, о т л и ч а— ю шийся тем, что, с целью повышения чувствительности материала к длиниоволновой.области спектра при .сохранении его термостабильности и прозрачности, инкекционный слой в качестве трехкомпонентного сплава содериит сплав селена с теллуром и фосфором при следуюцем соот- 3

1040460

Изобретение относится к несеребряным регистрирующим материалам, конкретно к фототермопластическому материалу, который может быть использован для быстрой регистрации и воспроизведения информации в обычной и голографической форме.

Известен фототермопластический материал,.состоящий из электроизолирующей подложки, электропроводящего покрытия, инжекционного слоя из сплава селена с фосфором и фототермопластического слоя, содержащего поли-N-винилкарбазол и теломер стирола с дивинилом. Данный фототермопластический материал прозрачен, обладает нысокой чувствительностью к нидимой области спектра и термостабильностью (11 .

Недостатком указанного материала является низкая чувствительность к длиннонолновой области спектра 0,05 м /Дж для обеспечения работы в голографических устройствах при записи информации на длинах волн

441 и 633 нм.

Наиболее близким к предлагаемому является фототермопластический материал (2), состоящий из электроизолирующей подложки, электропроводящего покрытия, инжекционного слоя толщиной 0,11-0,2 мкм из стеклообразного селена с мышьяком и теллу- . ром и фототермопластического слоя, включающего поли-N-винилкарбазол и термопластический полимер, причем инжекционный слой содержит, мас.Ъ: 35

Селен 85-91

Мышьяк 3-5

Теллур 6-10

Данный материал прозрачен, тер мостабилен, обладает высокой чувст- 40 вительностью к видимой области спектра и более высокой к длинноволновой зоне спектра (2,5 м /Дж). Однако эта чувствительность является недостаточно высокой для обеспечения работы этих материалов в голо-. графических устройствах при записи информации на:длине волны 633 нм.

2S

Цель изобретения — повышение чувствительности материала к длинноволновой области спектра при сохранении его термостабильности и прозрачности.

Указанная цель достигается тем, что фототермопластический материал, 55 состоящий из электроизолирующей подложки и последовательно нанесенных на нее электропронодящего покрытия, инжекционного слоя толщиной

0,1-0,2 мкм из стеклообразного трех- 60 компонентного сплава, содержащего селен и теллур, и фототермопластического слоя, согласно изобретению, ин. жекционный слой в качестве стеклообразного трехкомпонентного сплава содержит сплав селена с теллуром и фосфором при следующем соотношении компонентов, ат.Ъ:

Селен 89,7-94,9

Теллур 5,0- 10,0

Фосфор 0,1-0,3

Пример 1 прототип). На

,металлизированную никелем полиэтилен;терефталатную основу напыляют инжек.ционный слой сплава селена с теллу ром и мышьяком состава, ат.Ъ: селен

85; теллур 10; мышьяк 5. Толщина слоя 0,1 мкм. Затем методом купающего ролика из раствора в толуоле наносят фототермопластическую композицию состава: поли-N-винилкарбазол и теломер стирола с дивинилом в сооТношении 1:1. Толщина полимерного покрытия составляет 2-3 мкм. Приготовленный материал высушивают н вакуумном сушильном шкафу при комнат вЂ, ной температуре н течение 2-3 ч.

Пример 2. Аналогично приме-, ру 1 пблучают фотбтермопластический материал при использовании в качестве инжекционного слоя сплава селена с теллуром и фосфором состава, ат.Ъ: селен 89,9; теллур 10 и фосфор 0,1.

Толщина инжекционного слоя 0,15 мкм.

Пример 3. Аналогично примеру 1 готовят фототермопластический материал с применением хрома при получении электропронодящего покрытия и сплава селена с теллуром и фосфором состава соответственно (92,2:

:7,5:0,3) ат.Ъ в качестве инжекционного слоя толщиной 0,1 мкм.

Пример 4. Аналогично примеру 1 получают фототермопластический (ФТП) материал с применением в качестве термопластического полимера канифоли, модифицированной диалином, а в качестве инжекционного слоя толщиной 0,2 мкм сплава, содержащего

94,9 ат.Ъ селена, 5 ат.Ъ теллура и

0,1 ат.Ъ фосфора.

Пример 5. Аналогично примеру 1 получают ФТП-материал при использовании в качестве инжекционного слоя сплава селена с теллуром и фосфором состава, ат.Ъ: селен 89,5; теллур 10 и фосфор 0,5. Толщина инжекционного слоя 0,1 мкм.

Пример 6. Аналогично приме- ру 1 получают ФТП-материал с применением в качестне инжекционного слоя сплава селена с теллуром и фосфором состана, ат.Ъ: селен 87,9, теллур 12 и фосфор 0,1. Толщина инжекционного слоя 0,1 мкм.

Пример 7. Аналогично примеру 1 получают" ФТП-материал с применением в качестве инжекционного слоя сплава селена с теллуром и фосфором сдстава, ат.Ъ: селен 96,9; теллур 3,0 и фосфор 0,1. Толщина инжекционного слоя 0,1 мкм.

1040460 нением в качестве термопластического полимера сополимер дифенилполисилоксана с фенантринилсилоксаном, а в качестве инжеционного слоя толщиной 0,2 мкм сплава, содержаще5 ro 94,9 .ат.Ъ селена, 5 ат. Ъ теллура и 0,1 ат.Ъ фосфора.

Данные о чувствительности и термостабильности материалов приведены и таблице.

Коэффициент светопропускания в видимой области, Ъ

S> =633, м /Дж

Пример

1 (прототип) 33

2,5

5 10

0,1

35,7

29,5

0,1

0,15

4,0

35,7

37,0

39,0

4,5

37,0

26,5

7,5

0,1

0,3

5,0

39,0

0,1

0,2

5,0

20!

0,1

0,5

10

2,3

1,5

12

0,1

0,1

35

0,1

3,0

0,1

0,2

37

4,3

7,5

0,1

0,3

5,0

0,1

0,2

5,0

29

Из таблицы видно, что чувствитель» йость материала, полученного по пред лагаемому способу, к излучению с h = 633 нм в 1,5-2 раза выше, чем :. 45

Составитель В.Шиманская

Техред А.Ач Корректор Г.Orap

Редактор Л.Филь

Тираж 473 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Заказ 6 927/51

Филиал ППП "Патент", г..ужгород, ул. Проектная, 4

Пример 8. Аналогично приме ру 1 получают .ФТП-материал с применением титана при получении злектропроводящего покрытия и сплава селена с теллуром и фосфором состава сооТветственно 92,7:7,5:0,3) ат..Ъ в качестве инжекционного слоя толщиной

0,1 мкм.

Пример 9. Аналогично примеру 1 .получают ФТП-материал с приме1

Толщи-. на инжекционного слоя, мкм у материала, полученного по прото;типу. При этом термостабильность и прозрачность материала сохраня ют,ся.