Держатель подложки для молекулярно-пучковой эпитаксии

 

Полезная модель относится к области изготовления полупроводниковых приборов и может быть использована при выращивании тонких пленок методом молекулярно-пучковой эпитаксии (МПЭ). В держателе подложки для молекулярно-пучковой эпитаксии, включающем обойму, стопорное кольцо и средство термоизоляции подложки от обоймы и стопорного кольца, выполненное в виде двух колец из нитрида бора, при этом подложка укреплена между этими кольцами, обойма выполнена в виде плоского диска, при этом в ней размещена, по меньшей мере, одна дополнительная подложка со стопорным кольцом и средством термоизоляции дополнительной подложки от обоймы и стопорного кольца, выполненным в виде двух колец из нитрида бора, между которыми укреплена дополнительная подложка. Обеспечивается возможность размещения в держателе двух или более подложек и тем самым повышается производительность процесса МПЭ без увеличения габаритов камеры.

Полезная модель относится к области изготовления полупроводниковых приборов и может быть использована при выращивании тонких пленок методом молекулярно-пучковой эпитаксии (МПЭ).

Известен держатель подложки для МПЭ, включающий цилиндрическую обойму, стопорное кольцо, нагреватель, тепловой рассеиватель, JP 6132221.

Его недостатком является избыточная передача тепла от держателя к подложке, что вызывает перегрев ее краев по сравнению с центральной частью и, соответственно, деформацию подложки в процессе молекулярно-пучковой эпитаксии.

Уменьшение передачи тепла от держателя к подложке и предотвращение тем самым неравномерности ее нагрева и обусловленных этим деформаций достигается RU 59564 U1.

В этом устройстве держатель подложки для МПЭ включает цилиндрическую обойму, стопорное кольцо и снабжен средством термоизоляции подложки от обоймы и стопорного кольца, выполненным в виде двух колец из нитрида бора, при этом подложка укреплена между этими кольцами.

Данное техническое решение принято за прототип настоящей полезной модели.

Недостаток прототипа состоит в том, что в держателе вследствие сложной формы обоймы может быть расположена только одна подложка;

вследствие этого в камере для МПЭ в процессе одновременно участвует только одна подложка. Размещение в камере нескольких подложек, укрепленных в нескольких держателях, практически нецелесообразно, поскольку привело бы к несоразмерному увеличению габаритов камеры и ее стоимости.

Задачей настоящей полезной модели является обеспечение возможности размещения в держателе двух или более подложек и тем самым повышение производительности процесса МПЭ.

Согласно полезной модели в держателе подложки для молекулярно-пучковой эпитаксии, включающем обойму, стопорное кольцо и средство термоизоляции подложки от обоймы и стопорного кольца, выполненное в

виде двух колец из нитрида бора, при этом подложка укреплена между этими кольцами, обойма выполнена в виде плоского диска, при этом в ней размещена, по меньшей мере, одна дополнительная подложка со стопорным кольцом и средством термоизоляции дополнительной подложки от обоймы и стопорного кольца, выполненным в виде двух колец из нитрида бора, между которыми укреплена дополнительная подложка.

Заявителем не выявлены какие-либо технические решения, идентичные заявленному, что позволяет сделать вывод о соответствии настоящей полезной модели критерию «новизна».

Сущность полезной модели поясняется чертежами, где изображено:

на фиг.1 - вид сверху;

на фиг.2 - разрез по А-А на фиг.1;

на фиг.3 - фрагмент В на фиг.2 в увеличенном масштабе;

на фиг.4 - аксонометрия, иллюстрирующая процесс сборки.

Держатель подложки 1 для МПЭ включает металлическую обойму 2, выполненную в виде плоского диска, стопорное кольцо 3 и средство термоизоляции подложки 1 от обоймы 2 и кольца 3, которое выполнено в виде двух колец 4, 5 из нитрида бора, являющегося термоизолятором; подложка 1 укреплена между кольцами 4, 5. В обойме 2 размещена, по меньшей мере, одна дополнительная подложка, в конкретном примере - две дополнительные подложки - 6 и 7. Дополнительные подложки 6 и 7 снабжены дополнительными

стопорными кольцами 8 и 9, соответственно, и дополнительными средствами изоляции от обоймы и стопорного кольца, выполненными в виде двух колец из нитрида бора, таких же, как и кольца 4 и 5. Дополнительные средства термоизоляции на чертежах позициями не обозначены.

Устройство работает следующим образом,

В процессе молекулярно-пучковой эпитаксии подложки 1, 6, 7, укрепленные в держателе, нагревают посредством теплового излучения. Происходит нагрев как самих подложек, так и металлической обоймы 2 держателя.

Поскольку подложки 1, 6, 7 не контактируют с нагретой до относительно более высокой температуры обоймой 2, а находятся между кольцами средств термоизоляции, плохо проводящими тепло, передача тепла от обоймы 2 держателя к подложкам 1, 6, 7 резко уменьшается, что практически предотвращает возникновение градиента температуры от краев подложек к их центрам. Тем самым предотвращаются деформации подложки, которые вызывают появление трещин и ее разрушение.

Благодаря простой форме обоймы 2 оказывается возможным разместить в ней несколько подложек, оптимально - 3-6. При этом в камере МПЭ происходит выращивание тонких полупроводниковых пленок одновременно на нескольких подложках, что позволяет увеличить производительность процесса МПЭ без увеличения габаритов камеры.

Держатель подложки для молекулярно-пучковой эпитаксии изготавливается в заводских условиях с применением обычного оборудования и известных материалов, что обусловливает, по мнению заявителя, его соответствие критерию промышленная применимость.

Держатель подложки для молекулярно-пучковой эпитаксии, включающий обойму, стопорное кольцо и средство термоизоляции подложки от обоймы и стопорного кольца, выполненное в виде двух колец из нитрида бора, при этом подложка укреплена между этими кольцами, отличающийся тем, что обойма выполнена в виде плоского диска, при этом в ней размещена, по меньшей мере, одна дополнительная подложка со стопорным кольцом и средством термоизоляции дополнительной подложки от обоймы и стопорного кольца, выполненным в виде двух колец из нитрида бора, между которыми укреплена дополнительная подложка.



 

Похожие патенты:

Техническим результатом работы полезной модели является обеспечение возможности защиты областей топологии кристалла, содержащих конфиденциальные данные от обратного проектирования, путем механического разрушения именно того участка топологии, который содержит конфиденциальную информацию
Наверх