1. Защитное покрытие для фотоэлектрического модуля, включающее слой синтетического материала, отличающееся тем, что слой синтетического материала выполнен с бумифицирующим покрытием по меньшей мере на одной его поверхности в качестве средства связи с соответствующим полимерным материалом при ламинировании и герметизации фотоэлектрических преобразователей в фотоэлектрическом модуле.
2. Защитное покрытие по п.1, отличающееся тем, что слой синтетического материала выполнен в виде синтетической бумаги на лавсановой или полиэтилентерефталатной основе и имеет толщину не менее 70 мкм.
3. Защитное покрытие по п.1 или 2, отличающееся тем, что одна из его поверхностей выполнена глянцевой.
4. Защитное покрытие по любому из пп.1-3, отличающееся тем, что бумифицирующее покрытие имеет толщину не менее 5 мкм.
5. Защитное покрытие по любому из пп.1-4, отличающееся тем, что синтетическая бумага и бумифицирующее покрытие образуют неразъемное соединение.
6. Защитное покрытие по любому из пп.1-5, отличающееся тем, что бумифицирующее покрытие выполнено в виде лака.
