Контактная маска для изготовления поверхностного микропрофиля при ионном травлении в вакууме

 

Контактная маска для изготовления поверхностного микропрофиля при ионном травлении в вакууме, представляющая собой плоско-параллельную пластину с отверстием требуемого контура травления, отличающаяся тем, что на ее поверхность, контактирующую с обрабатываемой деталью, нанесен слой полимерной пленки, имеющий более высокую пластичность по отношению к материалу контактной маски.



 

Похожие патенты:
Наверх