Устройство формирования изображения на подложке
Полезная модель относится к области машиностроения, а более конкретно к устройствам формирования изображения на подложке.
В основу полезной модели положена техническая задача, состоящая в том, чтобы обеспечить возможность формирования уменьшенного изображения шаблона на подложке.
Поставленная техническая задача решается тем, что в устройстве формирования изображения на подложке, содержащем подложку, источник лазерного излучения, первое полупрозрачное зеркало, отражательный шаблон, фокусирующую линзу, второе полупрозрачное зеркало и устройство обращения волнового фронта, согласно предложенной полезной модели, источник лазерного излучения выполнен на основе глубокого ультрафиолета с длиной волны 
0=193 нм, отражающий шаблон выполнен из алюминия, фокусирующая линза выполнена из сапфира, подложка покрыта тонкой пленкой высотой от 0,3 нм до 0,5 нм, выполненной из материала с показателем преломления среды n больше 1,9, устройство обращения волнового фронта выполнено в виде закрытого полого цилиндра, наполненного трифторэтанолом
Технический результат, достижение которого обуславливается реализацией всей заявляемой совокупностью признаков, состоит в том, что обеспечивается возможность формирования уменьшенного изображения шаблона на подложке.
Полезная модель относится к области машиностроения, а более конкретно к устройствам формирования изображения на подложке.
Известно устройство формирования изображения на подложке, содержащее источник лазерного излучения, два полупрозрачных зеркала, отражательный шаблон, фокусирующую линзу и обращатель волнового фронта [«Введение в фотолитографию», Лаврищев В.П., М.: Энергия, 1977 г., 400с.].
Недостатком аналога является невозможность формирования уменьшенного изображения шаблона на подложке.
Наиболее близким по технической сущности и достигаемому результату является устройство формирования изображения на подложке, содержащее источник лазерного излучения, первое полупрозрачного зеркала, отражательный шаблон, второе полупрозрачное зеркало, фокусирующую линзу и обращатель волнового фронта [«Обращение волнового фронта», Б.Я.Зельдович, М. Наука, 1985 г., 247 с.].
Недостатком прототипа также является невозможность формирования уменьшенного изображения шаблона на подложке.
В основу полезной модели положена техническая задача, состоящая в том, чтобы обеспечить возможность формирования уменьшенного изображения шаблона на подложке.
Поставленная техническая задача решается тем, что в устройстве формирования изображения на подложке, содержащем подложку, источник лазерного излучения, первое полупрозрачное зеркало, отражательный шаблон, фокусирующую линзу, второе полупрозрачное зеркало и устройство обращения волнового фронта, согласно предложенной полезной модели, источник лазерного излучения выполнен на основе глубокого ультрафиолета с длиной волны 0=193 нм, отражающий шаблон выполнен из алюминия, фокусирующая линза выполнена из сапфира, подложка покрыта тонкой пленкой высотой от 0,3 нм до 0,5 нм, выполненной из материала с показателем преломления среды n больше 1,9, устройство обращения волнового фронта выполнено в виде закрытого полого цилиндра, наполненного трифторэтанолом
Технический результат, достижение которого обуславливается реализацией всей заявляемой совокупностью признаков, состоит в том, что обеспечивается возможность формирования уменьшенного изображения шаблона на подложке.
Сущность полезной модели поясняется на фиг.1, где показано устройство формирования изображения на подложке.
Устройство формирования изображения на подложке (фиг.1) содержит подложку 1, источник лазерного излучения 2, первое полупрозрачное зеркало 3, отражающий шаблон 4, фокусирующую линзу 6 из сапфира, второе полупрозрачное зеркало 5, устройство обращения волнового фронта 7.
На подложку 1 нанесено тонкое пленочное покрытие 8 высотой h от 0,3 нм до 0,5 нм из материала с показателем преломления n больше 1,9. Покрытие может быть выполнено, например, из оргстекла, либо в качестве покрытия может быть использована жидкость, например вода.
Устройство обращения волнового фронта 7 выполнено в виде закрытого полого цилиндра 9, внутри которого помещен трифторэтанол.
Устройство формирования изображения на подложке (фиг.1) работает следующим образом.
Лазерное излучение от источника 2 проходит сквозь полупрозрачное зеркало 3, отражается от шаблона 4, попадает в среду с нерегулярными неоднородностями полупрозрачного зеркала 3 и, разделяясь, падает на второе полупрозрачное зеркало 5, после чего фокусируется сапфировой линзой 6. Расходящийся неоднородный пучок, сфокусированный сапфировой линзой 6, попадает в закрытый полый цилиндр с трифторэтанолом, обладающим эффектом обращения волнового фронта, и оборачивается.
Обернутое излучение достигает неоднородной среды второго полупрозрачного зеркала 5 и, проходя через нее, становится идеально направленным. Искажения волнового фронта, появившиеся после прохождения первого полупрозрачного зеркала, компенсируются при прохождении второго полупрозрачного зеркала.
Тонкая пленка 8 высотой h=0,3÷0,5 нм из материала с показателем преломления n>1,9 уменьшает длину волны луча в показатель преломления 0=/n.
Применение предлагаемого устройства формирования изображения на подложке позволяет обеспечить возможность формирования уменьшенного изображения шаблона.
Устройство формирования изображения на подложке, содержащее подложку, источник лазерного излучения, первое полупрозрачное зеркало, сквозь которое проходит лазерное излучение от источника лазерного излучения, отражательный шаблон, отражающий лазерное излучение, которое, попадая в среду с нерегулируемыми неоднородностями первого полупрозрачного зеркала и разделяясь, падает на второе полупрозрачное зеркало, фокусирующую линзу, которая фокусирует расходящийся пучок лазерного излучения, и обращатель волнового фронта, оборачивающий сфокусированный пучок лазерного излучения, отличающееся тем, что источник лазерного излучения выполнен на основе глубокого ультрафиолета с длиной волны 0=193 нм, отражающий шаблон выполнен из алюминия, фокусирующая линза выполнена из сапфира, подложка покрыта тонкой пленкой высотой от 0,3 нм до 0,5 нм, выполненной из материала с показателем преломления среды n больше 1,9, устройство обращения волнового фронта выполнено в виде закрытого полого цилиндра, наполненного трифторэтанолом.
