Приборов, в которых полупроводниковые подложки содержат элементы четвертой группы периодической системы или соединения aiiibv с примесями или без них, например материалы с легирующими добавками (H01L21/18)

H01L21/18              Приборов, в которых полупроводниковые подложки содержат элементы четвертой группы периодической системы или соединения aiiibv с примесями или без них, например материалы с легирующими добавками(7)

Многослойная gaas - эпитаксиальная структура для быстродействующих, высоковольтных, высокотемпературных кристаллов диодов // 132917
Многослойная GaAs - эпитаксиальная структура для быстродействующих, высоковольтных, высокотемпературных кристаллов диодов, которые предназначены для изготовления быстродействующих, высоковольтных, высокотемпературных диодов широкого применения. Технической задачей предложенной полезной модели является создание многослойных эпитаксиальных структур на основе CaAs, обеспечивающих изготовление кристаллов быстродействующих, высоковольтных, высокотемпературных диодов с низким уровнем обратного тока и «резкой» характеристикой лавинного пробоя в рабочем диапазоне температур для использования в преобразовательной технике, импульсных источниках питания и других устройствах быстродействующей электроники..
 
2548464.
Наверх