Подкладка для формирования шва при электронно-лучевой сварке

 

Подкладка для формирования шва при электронно-лучевой сварке деталей большой толщины, отличающаяся тем, что подкладка содержит корпус П-образной формы, в котором установлен набор пластин толщиной 0,5-0,8 ширины шва в его корневой части с возможностью перемещения в плоскостях, параллельных плоскости стыка, а в корпусе установлены винтовые прижимы для фиксации пластин относительно друг друга и свариваемых деталей со стороны корня шва.



 

Похожие патенты:
Наверх