Устройство для образования кристаллов в жидких средах

Устройство для образования кристаллов в жидких средах, включая источник физического воздействия и специальную камеру воздействия, отличающееся тем, что источник физического воздействия представляет собой источник инфракрасного когерентного излучения среднего диапазона в области длин волн от 2 до 15 мкм, установленный с возможностью воздействия излучения на открытую или закрытую специальным прозрачным для излучения окном поверхность материала или внутрь самого материала, находящегося в проточном или стационарном режиме.